Gebraucht GELON GN-135 #9392734 zu verkaufen

GELON GN-135 ist eine hochpräzise Photoresist-Ausrüstung zum präzisen Ätzen oder Mustern auf verschiedenen Substraten. Sie eignet sich besonders für Lithographieanwendungen, die Genauigkeit und hochauflösende Ergebnisse erfordern. Das System verfügt über ein einzigartiges Nanoschichtdesign, das hohe Prozessgeschwindigkeiten und langfristige Zuverlässigkeit ermöglicht. GN-135 basiert auf einer direkt schreibenden Lithographieeinheit, die mit UV-Licht Muster auf dem Substrat erzeugt. Das Licht wird durch eine Maske mit dem gewünschten Muster geleuchtet, und das UV-Licht wird blockiert oder durch die Maske hindurch auf das Substrat geleitet. Diese Technik ermöglicht eine variable und präzise Strukturierung, ohne sich auf teure Photomasken zu verlassen. GELON GN-135 besteht aus einer Reihe von Komponenten, die zusammenarbeiten, um herausragende Ätz- und Musterergebnisse zu erzielen. Das erste Bauteil ist ein Lenkmechanismus, der eine genaue Positionierung und Ausrichtung der Maske auf das Substrat ermöglicht. Die zweite Komponente ist das Resistmaterial auf Polymerbasis, das zum Schutz der nicht geätzten oder unangetasteten Bereiche des Substrats verwendet wird. Dieses Resistmaterial ist empfindlich gegen UV-Licht und „setzt“ bei Belichtung ein, wodurch ein Ätzen in den geschützten Bereichen verhindert wird. Die dritte Komponente von GN-135 ist die Lichtquelle. Der Einsatz von Licht mit Wellenlängen im UV-Bereich (bis ca. 300 nm) sorgt dafür, dass das Licht in das Resistmaterial eindringen kann und ermöglicht eine präzise Strukturierung mit hoher Genauigkeit. Die vierte Komponente ist die Ätzeinrichtung. Diese Vorrichtung arbeitet je nach geätztem Material unterschiedlich, beinhaltet jedoch in den meisten Fällen eine Art chemische Reaktion, um die ungeschützten Bereiche des Substrats „wegzuätzen“. Die Endkomponente von GELON GN-135 ist die Präzisionskontrollmaschine. Mit diesem Werkzeug wird sichergestellt, dass der gesamte Ätzvorgang genau und präzise durchgeführt wird. Es ermöglicht die Feinabstimmung von Maskenausrichtung, Lichtintensität und Ätzgeschwindigkeit. Dies ermöglicht ein Maß an Genauigkeit, das schwer mit manuellen Techniken übereinstimmt. Abschließend ist GN-135 ein hochpräziser Photoresist, der zum genauen Ätzen und Strukturieren von empfindlichen Substraten verwendet wird. Es besteht aus einer Reihe von Komponenten, die zusammenarbeiten, um präzise Ergebnisse zu erzielen, und sein Präzisionskontrollmodell gewährleistet ein Maß an Genauigkeit und Zuverlässigkeit, das mit manuellen Prozessen nicht erreicht werden kann.