Gebraucht GRO-UP GSPC-6 / GCP-713B #171530 zu verkaufen

GRO-UP GSPC-6/ GCP-713B Photoresist Equipment ist ein umfassendes System zur Herstellung, Beschichtung und Belichtung von Photoresist-Materialien. Diese Einheit ist für die Durchführung von hochauflösenden Schaltungsmustern auf elektronischen Zwischenfilmsubstraten (EIF) ausgelegt. Zu den Hauptkomponenten dieser Maschine gehören ein Dosierwerkzeug, ein Backofen, ein Beschichtungsgerät und eine Belichtungsquelle. Die Dosieranlage misst und mischt bis zu vier Basiskomponenten gleichzeitig, um eine Rezepturanpassung zu ermöglichen. Die Präzisionsmesszylinder verfügen über einstellbare Niveauregulierungen und einen direkt angetriebenen Servo, um eine präzise und wiederholbare Dosierung auch bei niedrigen Pegeln zu gewährleisten. Das dosierte Photolackmaterial ist dann zur Beschichtung bereit. Der Ofen dient zur Erwärmung des Photolackmaterials auf eine zur Beschichtung und Verarbeitung geeignete Temperatur. Die Erwärmung kann in zwei Stufen erfolgen, was sowohl eine Vortrocknung des Materials als auch eine Nachhärtung der Beschichtung ermöglicht. Damit kann auch der Durchsatz des Modells erhöht werden, indem mehrere Substrate gleichzeitig chargenweise bearbeitet werden. Die Beschichtungseinrichtung trägt eine gleichmäßige und gleichmäßige Beschichtung des Photolackmaterials auf das Substrat auf. Die Ablagerung wird automatisch auf Dicke, Filmzusammensetzung, Oberflächenzusammensetzung und Parameter wie Schlangenwinkel, Verdrehung und Richtung gesteuert und überwacht. Die Schritt- und Bewegungssteuerung passt den Druck und die Strömung automatisch an, um konsequent genaue und konsistente Ergebnisse zu erzielen. Das Belichtungssystem besteht aus einer ultravioletten Lichtquelle, einem Reflektor und einem Spiegel. Die Lichtquelle liefert intensive UV-Strahlung, die die gesamte Substratoberfläche sättigt. Dies ermöglicht eine Selbstausrichtung zwischen den belichteten und unbelichteten Bereichen des Substrats während der Nachbearbeitung. Die Lichtquelle ist auch einstellbar, um eine kontrollierte, leistungsarme Belichtung für die Feinmusterung auf Mikroniveau bereitzustellen. GSPC-6/ GCP-713B Photoresist Unit ist eine ideale Lösung für anspruchsvolle Schaltungsanforderungen. Es bietet präzise und konsistente Leistung, hohen Durchsatz und konsistente Ergebnisse. Diese Maschine eignet sich für die EIF-Fotolackverarbeitung und eignet sich für Anwendungen, die Präzision und hochauflösende Schaltungsmuster erfordern. Das fortschrittliche Dosier-, Ofen-, Beschichtungs- und Belichtungswerkzeug bietet die beste Kombination aus Ausrüstung und Funktionen für eine effiziente Verarbeitung von fortschrittlichen Fotolackmaterialien.