Gebraucht HEADWAY CB 15 #9392727 zu verkaufen

HEADWAY CB 15 Photoresist Equipment ist ein fortschrittliches und robustes CVD-System (Chemical Vapor Deposition), das entwickelt wurde, um qualitativ hochwertige Photoresist-Schichten auf Festkörpersubstraten zu erzeugen. Es ermöglicht das Wachstum von Filmen mit minimalem Zeitaufwand und Kosten. Das Gerät nutzt proprietäre Prozesssteuerungsfunktionen, automatisierte End-of-Run-Diagnosen und maßgeschneiderte Komponenten, um eine überlegene Haftfestigkeit und Gleichmäßigkeit der Photolackschicht zu erreichen. Die Maschine besteht aus einer automatisierten Prozesskammer, einem Vakuumwerkzeug, einer luftversorgten Heizkammer und einer Steuer- und Überwachungssoftware. Das CVD-Verfahren beinhaltet die Abscheidung eines dünnen Films aus Photolackmaterial auf einer Substratoberfläche. Es folgen eine Reihe von korrosiven Reinigungs- oder Veredelungsschritten und das Aufbringen einer Schutz- oder Fotomaskierungsschicht. In CB 15 wird das Verfahren durch Einspeisen eines Photoresist-Vorläufers enthaltenden atmosphärischen Dampfes in die Prozesskammer eingeleitet. Dadurch entsteht ein verdampftes Gas von in der Luft suspendierten Reaktandenmolekülen. Das Gerät ist hocheffizient mit einem einmaligen Evakuierungszyklus und minimaler Wiederherstellungszeit. Der druckvariable Verteiler und die eingebauten Heizungen ermöglichen es dem Anwender, den Druck- und Temperaturbereich innerhalb der Prozesskammer genau zu steuern. Dies trägt dazu bei, eine gleichmäßige Abscheidung der Photolackschicht auf dem Substrat und zuverlässige Hafteigenschaften zu gewährleisten. Die End-of-Run-Diagnose des Modells erkennt automatisch unerwünschte Nebenwirkungen des Prozesses wie Blasen und Hohlräume. HEADWAY CB 15 Geräte können mit einer Vielzahl von Photoresist-Materialien verwendet werden, von herkömmlichen Organic Photo Resist (OPR) über Photoresist-Polymere und anorganische Materialien. Seine Fähigkeit, auch sehr dünne Photolackschichten genau und gleichmäßig abzuscheiden, macht es ideal für High-End-Anwendungen, die eine exakte Schichtdicke erfordern. CB 15 ist in der Lage, Materialien wie Quarz, Silizium, Galliumarsenid, Siliziumnitrid und Germanium zu verarbeiten und ist mit der Standard-Photolithographie- und Nassätzverarbeitung kompatibel. Das System kann ferngesteuert werden und wird durch eine umfassende Bedienungsanleitung unterstützt, um einen korrekten und effizienten Betrieb zu gewährleisten. Die automatisierte End-of-Run-Diagnose und die Echtzeit-Protokollierung von Prozessparametern sorgen für weitere einfache Bedienung. Schließlich kommt das Gerät mit einer Reihe von maßgeschneiderten Zubehör und Ersatzgeräte im Falle eines Hardware-Ausfalls. HEADWAY CB 15 Photoresist Unit ist somit die perfekte Wahl für die präzise Abscheidung von Photolackschichten auf Festkörpersubstraten.