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HEADWAY EC 100
ID: 114659
Photoresist coater.
HEADWAY EC 100 ist ein Photoresist-Gerät, das verwendet wird, um elektronische Mikroskalenschaltungen auf der Oberfläche eines Substrats zu erzeugen. Dieses System ermöglicht die schnelle Entwicklung zuverlässiger und präziser miniaturisierter elektronischer Komponenten. Dies geschieht durch ein photoinitiiertes Ätzverfahren, bei dem das Substratmaterial selektiv einem Photolack ausgesetzt wird, der in späteren Stufen zu sehr präzisen Mustern entfernt werden kann. Die Einheit EC 100 besteht aus einer Reihe von Komponenten; einen Flüssigkristallbildschirm (LCD), eine Quarzhalogenlampe, einen elektronischen Schrittmotor, einen Computer mit einer elektronischen Schnittstelle, eine Hochdruckmessmaschine und einen Fotolack. Das gesamte Werkzeug wird vom Computer gesteuert, der mit dem LCD-Monitor verbunden ist, sodass der Benutzer beliebige Parameter an jedem Punkt des Bildgebungsprozesses anpassen kann. Nach dem Aufbau aller Komponenten wird ein Substrat in die Dosiereinrichtung eingebracht und das Dosiermodell verwendet, um eine exakte, vorgegebene Menge Photolack auf das Substrat zu legen. Die Dosiereinrichtung wird dann zusammen mit dem Schrittmotor und der Quarzhalogenlampe verwendet, um den Photolack durch Bestrahlen mit einem gewünschten Satz von Wellenlängen zu belichten. Dieser Austausch von Lichtenergie bewirkt eine photoinduzierte Polymerisationsreaktion im Photoresist, wodurch diese zu einem gewünschten Muster aushärtet. Der nun gehärtete Photolack wird dann mechanisch von der Substratoberfläche entfernt, um das gewünschte elektronische Schaltungsmuster zu erzeugen. Um eine einwandfreie Haftung und Bindung des Photolacks zu gewährleisten, wird das Substrat dann in einer kontrollierten Umgebung erhitzt, um eine verbleibende Oberflächenverunreinigung zu vermeiden. Das System HEADWAY EC 100 ist eine zuverlässige, schnelle und genaue Photoresist-Einheit zur Erstellung einer elektronischen Mikroskalenschaltung. Es bietet eine ausgezeichnete Bildauflösung und eine präzise Steuerung des Fotolacks. Als solches wurde es erfolgreich in einer Vielzahl von Fertigungs-, Ingenieur- und Forschungsanwendungen eingesetzt, in denen Präzision und Geschwindigkeit unerlässlich sind.
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