Gebraucht HEADWAY EC 101 #114662 zu verkaufen

HEADWAY EC 101 ist eine Photoresist-Ausrüstung für mikroelektronische Herstellungsprozesse. Es handelt sich um ein wasserlösliches, organosulfur-polymeres Photoresist-Material, das zum Schutz funktionalisierter Substrate bei Lithographie- und Ätzprozessen entwickelt wurde. HEADWAY EC101 System besteht aus zwei Komponenten - die Resistflüssigkeit und die Entwicklerflüssigkeit. Die Resistflüssigkeit enthält das polymere Photolackmaterial, das auf das Substrat aufgebracht wird. Nach der UV-Bestrahlung vernetzt das Polymermaterial und wirkt als Schutzschicht. Mit der Entwicklerflüssigkeit wird das polymere Photoresistmaterial nach Abschluss des Lithographie- oder Ätzprozesses gelöst. Dieses Verfahren wird als „Entwicklung“ bezeichnet und ist notwendig, um das unerwünschte Resistmaterial zu entfernen, das nach erfolgter Lithographie oder Ätzung auf dem Substrat verblieben sein kann. Zu den Vorteilen von EC 101 gehören die geringen Kosten, schnelle Bearbeitungszeiten und hohe Auflösungen. Darüber hinaus sind Resistflüssigkeit und Entwicklerflüssigkeit mit einer breiten Palette von Lithographie- und Ätztechnologien kompatibel, darunter Advanced Lithography, Deep Reactive Ion Etching (DRIE) und Chemical Mechanical Planarization (CMP). Die geringen Kosten für EC101 im Vergleich zu anderen Photolacksystemen machen es zu einer sehr attraktiven Option für Halbleiterchiphersteller. Es ist auch eine zuverlässige Wahl für fortschrittliche Lithographieanwendungen, da seine hochauflösenden Ergebnisse es Herstellern ermöglichen, kompliziertere Designs auf ihren Chips zu erstellen. Darüber hinaus ist die Maschine HEADWAY EC 101 mit chemischem Bildschirm kompatibel und ermöglicht es OEMs, die mit der Entwicklung kundenspezifischer Lösungen verbundenen Kosten zu reduzieren. Darüber hinaus ermöglicht es bei schnellen Bearbeitungszeiten einen hohen Durchsatz, was bedeutet, dass Hersteller mit ihren Ressourcen effizienter sein können. Zusammenfassend ist HEADWAY EC101 Tool eine ausgezeichnete Wahl für alle Arten von Halbleiterchip-Herstellung, bietet große Kosteneinsparungen und hervorragende Auflösungsergebnisse. Darüber hinaus ist die breite Kompatibilität mit verschiedenen Lithographie- und Ätztechnologien zuverlässig und an alle Bedürfnisse anpassbar.