Gebraucht HEADWAY EC 101 #9084393 zu verkaufen

HEADWAY EC 101 ist eine Photolackausrüstung für viele Halbleiteranwendungen, wie die Entwicklung von Leiterplatten und anderer Mikroelektronik. Es besteht aus einem Photolackmaterial und wird mit Lichtenergie aktiviert. Photoresist ist ein lichtempfindliches Material, das bei der Übertragung von Bildern oder Mustern auf dünne Substrate verwendet wird. Bei Belichtung ändert das Photolackmaterial seine Löslichkeit, so dass bestimmte Teile des Substrats weggeätzt werden können, wenn das Material mit einem flüssigen Entwickler abgespült wird. HEADWAY EC101 System besteht aus mehreren Komponenten. Dazu gehören der Photolack, eine energiereiche Lichtquelle und ein Entwickler. Das Photolackmaterial besteht aus einem Polymer in Kombination mit einer aktiven organischen Verbindung. Das Photolackmaterial wird auf einem Substrat verteilt und trocknet. Beim Aufbringen von Licht auf den Photolack verändert es die Löslichkeit der Wirkstoffe speziell in den Bereichen, in denen das Licht aufgebracht wird. Nach der Belichtung wird ein flüssiger Entwickler über den Photolack aufgebracht. Dieser flüssige Entwickler ist typischerweise eine wässrige Lösung von organischen Lösungsmitteln, Säuren und oberflächenaktiven Mitteln in Kombination. Der Entwickler interagiert mit dem Photolack und entfernt die aktiven Komponenten, die durch die Lichtbelichtung verändert wurden. Diese Entfernung der Wirkstoffe hinterlässt ein Ätzmuster auf dem Substrat, das genau dem Muster der Lichtbelichtung folgt. Mit dem entsprechenden Entwickler kann auch die Tiefe der Ätzung gesteuert werden. Mit der Photolackeinheit EC 101 können Leiterplatten schnell und präzise entwickelt und geätzt werden. Es wird weitgehend in Halbleiteranwendungen eingesetzt, bei denen eine Kombination aus Genauigkeit und Geschwindigkeit erforderlich ist. Darüber hinaus trägt die Umweltfreundlichkeit der Photolackmaschine zu ihrem breiten Einsatz bei. Mit EC101 Tool können Unternehmen maßgeschneiderte Leiterplatten mit minimaler Umweltbelastung erstellen.