Gebraucht HEADWAY EC 102 #114663 zu verkaufen

HEADWAY EC 102 ist ein Photolacksystem, das sowohl für einschichtige als auch für rückwärtige doppelschichtige Musterverfahren entwickelt wurde. Es ist ein niedrig temperaturhärtender negativer Photolack mit ausgezeichneter Filmbildungsleistung auf Metall, dielektrischen und organischen Substraten. Die EC 102 eignet sich besonders für MEMS-Anwendungen, bei denen eine überlegene Trockenätzselektivität gegenüber Photoresist und Metall erforderlich ist. Seine Entwicklung umfasst eine optisch aktive funktionelle Gruppe, die vernetzt, um ein Polymernetzwerk zu bilden, wenn sie einer UV-Lichtquelle ausgesetzt ist. Die Reaktion führt bei hochauflösenden Ätzprozessen zu einer erhöhten Beständigkeit gegen hochenergetische ionische Bombardierungen. Dieses Photolacksystem bietet eine ausgezeichnete Gleichmäßigkeit und Trockenätzselektivität gegenüber photodefinierbaren organischen Schichten. Sein organisch-anorganisches Hybrid-Netzwerk ist für minimale Kantenperlen konzipiert, hat eine minimierte Wirkung vom Rückseitenätzen und seine Oberflächenhaftung ist hervorragend. Wenn das Produkt einer hohen Laserbestrahlung ausgesetzt ist, verhält es sich nahezu perfekt über sehr niedrige Linienbreitenvariationen in einstufigen Schichtmustern, was hochauflösende Ätzergebnisse ermöglicht. Seine geringe Rückstandsleistung minimiert den Einsatz hochaggressiver Reiniger und macht ihn für den Einsatz in dünnen Schichten empfindlicher Dielektrika geeignet. HEADWAY EC 102 kann mit einer breiten Palette von positiven und negativen Entwicklern entwickelt werden. Von phenolischen Kern-Hülle-Nanopartikeln bis zur Niedertemperatur-Polymerisation bietet es eine ausgezeichnete Verarbeitbarkeit und kann in mehreren Musteranwendungen verwendet werden. Das Produkt zeichnet sich auch durch hervorragende Beschichtungsgleichmäßigkeit, Konsistenz und Oberflächenplanarisierung aus. EC 102 eignet sich gut für Anwendungen wie optische Transceiver, Flüssigkristallanzeigen und mikrofluidische Chips, die eine sehr genaue Strukturierung und Oberflächenplanarisierung erfordern. Insgesamt ist das Photolacksystem HEADWAY EC 102 ein sehr vielseitiges und kostengünstiges Verfahren zur Erzeugung großer Funktionsgrößen, dünner Schichten und hochgenauer Strukturen für eine breite Palette von MEMS-Anwendungen. Es ist so konzipiert, dass es mit ultradünnen Schichten aus dielektrischen und organischen Substraten kompatibel ist, in Kombination mit einer Vielzahl von positiven und negativen Entwicklern arbeitet und eine ausgezeichnete Trockenätzselektivität und Gleichmäßigkeit aufweist.