Gebraucht HEADWAY EC 102 #9123998 zu verkaufen

HEADWAY EC 102 ist eine einschichtige, negative Photoresist-Ausrüstung, die entwickelt wurde, um die Produktionsausbeute von Gräben mit hohem Seitenverhältnis in optischen Mikrolithographie-Druckanwendungen zu erhöhen. Das Photoresist-System besteht aus einem positiven Photoresist, EC 102, und einer sich entwickelnden Chemie, die zusammenarbeitet, um eine verbesserte Auflösung, eine geringe Kantenrauhigkeit (LER) und eine verbesserte Linienbreitenkontrolle bereitzustellen. Der positive Photoresist, HEADWAY EC 102, besteht aus einem langkettigen Polymer, einem Photosäuregenerator und einer additiven Amalgamierung, die eine verbesserte Planarisierung ermöglicht. Die langkettige Polymerstruktur führt zu höherer Auflösung und besserer Linienrauhigkeit (LER) als thermisch ausgehärtete Systeme, während der Photosäuregenerator und die additive Amalgamierung die Planarisierung durch höhere Ätzselektivitätsverhältnisse verbessern. Die Chemie der Photolackeinheit EC 102 ist optimiert, um eine hohe Ätzselektivität, Langzeitstabilität und ausgezeichnete Haftung auf einer Vielzahl von Substraten bereitzustellen. Die Maschine hat Niedertemperatur-Backanforderungen, was bedeutet, dass sie während der Verarbeitung nicht durch hohe Temperaturen beeinflusst wird. Zusätzlich kann der Photolack bis zu 300 ° C bei rückseitigen Asche- und Abhebevorgängen aushalten. Das Photoresist-Werkzeug HEADWAY EC 102 wurde entwickelt, um hohe Durchgänge für Produktionslinien bereitzustellen. Seine Niedertemperatur-Backanforderung ermöglicht eine schnellere Substratintegration und Vorbeschichtung Verarbeitung, Verkürzung Zykluszeit. Darüber hinaus sorgt die Kompatibilität mit einer Vielzahl von Standard-Verarbeitungsanlagen wie Waferreiniger, Trockner und Belichtungssysteme für hohe Leistung bei geringen Kosten. Darüber hinaus ist EC 102 Photoresist Asset sehr zuverlässig. Es zeichnet sich durch hohe thermische, hydrolytische und oxidative Stabilität aus, so dass es in einer Vielzahl von Verarbeitungstemperaturen und Umgebungen verwendet werden kann. Das Fotolackmodell ist auch einfach zu bedienen; seine robuste Formulierung macht es für jede Temperatur, Feuchtigkeit und Belichtungsbedingungen geeignet. Zusammenfassend ist HEADWAY EC 102 eine einschichtige, negative Photoresist-Ausrüstung, die eine hervorragende Auflösung, LER (Line Edge Roughness) und Linienbreitensteuerung bietet. Seine Tieftemperatur-Backen, hohe Ätzselektivität, Langzeitstabilität und Kompatibilität mit einer Vielzahl von Standard-Verarbeitungsanlagen machen es zu einer idealen Wahl für mikrolithographische optische Druckanwendungen.