Gebraucht HEADWAY LSC 510 #123052 zu verkaufen

HEADWAY LSC 510
ID: 123052
Photoresist coater 22" Diameter chamber Large substrates: 50-6,000 rpm Safety enclosure (6) Speeds (14) Timers.
HEADWAY LSC 510 ist eine kommerzielle Photoresist-Ausrüstung für den Lithographieprozess für die Entwicklung und Produktion von Prototypen. Das System besteht aus zwei Hauptkomponenten - der Liefereinheit und der Lithographieeinheit - und wird von drei Laser Scanning Controllern (LSCs) angetrieben. In der Fördereinheit befindet sich die Laserdiodeneinheit, die die Energie für den Photolackprozess liefert. Die Übertragung eines gewünschten Musters auf einen Wafer beginnt mit dem Photomaskenmuster. Auf die vordere Oberfläche der Maske wird Polymethylmethacrylat (PMMA) aufgebracht, gefolgt von einer Schicht aus Chromplatin oder einem anderen Metall. Die Maske wird dann über das Substrat gelegt und der UV-Strahlung der Laserdiode ausgesetzt. Dadurch wird eine Änderung des zunächst mit Photolack bedeckten Substrats eingeleitet, wobei nur die Bereiche belichtet werden, die die Laserdiode erreichen konnte. Die Übertragung des Photomaskenmusters auf das Substrat wird durch die Lithographieeinheit erreicht. Diese Einheit enthält drei Komponenten - eine Belichtungsstufe, eine Abtasteinheit und den Strahlgenerator. Die Belichtungsstufe enthält eine hochpräzise motorisierte x-y-Stufe, die den Wafer hält, sowie eine Kippmaschine zur Steuerung des Winkels des Wafers während der Belichtung. Das Abtastwerkzeug bewegt die Laserdiode in definierten Richtungen über die Fotomaske hin und her. Der Strahlgenerator ist für den Laser und die Intensität der Laserdiode verantwortlich. Die Lithographieeinheit wird von drei Laser Scanning Controllern (LSCs) gesteuert, die die für einen erfolgreichen Photoresist-Prozess notwendige Positionsgenauigkeit und Computersteuerung bieten. Sie steuern die hochpräzisen Koordinaten des Lasers, überwachen das Photomaskenmuster und positionieren die Laserdiode mit der erforderlichen Genauigkeit. LSC 510 ist ideal für Rapid Prototyping und Massenproduktion. Seine Genauigkeit und kompakte Bauweise machen es für viele Arten von Umgebungen und Prozessen geeignet. Es ist eine zuverlässige und kostengünstige Lösung für Lithographieprojekte und liefert präzise Ergebnisse.
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