Gebraucht HEADWAY PWM 32 #170907 zu verkaufen

HEADWAY PWM 32
ID: 170907
Photoresist spinner Specifications: Black color Supply: 3A/115V Vacuum: -23" HG (Mercury) Hose for vacuum: 5.5MM I/D and 10.8MM O/D Speed control unit: Model: EC101 0-120 seconds 0-10,000 RPM Analogue meter.
HEADWAY PWM 32 ist eine Photolackausrüstung von HEADWAY Technologies. Dieses System nutzt eine Kombination aus Licht- und chemischen Prozessen, um Photomasken zu erstellen, die komplexe Strukturen und Formen präzise reproduzieren können. Das Gerät wurde entwickelt, um eine Fotoresistmaschine mit einer hohen Genauigkeit, Flexibilität und Wirtschaftlichkeit für alle resistbezogenen lithographischen Anwendungen bereitzustellen. HEADWAY PWM32 Tool verwendet fortschrittliche Licht- und chemische Prozesse, um eine präzise Wiedergabe von Merkmalen in einer Photomaske zu ermöglichen. UV-Licht wird durch ein Quarzfenster in eine invertierte optische Zelle geleitet, die den Photoresist enthält. Dem Photolack wird dann eine genaue Energie zugeführt, die dann eine chemische Reaktion hervorruft. Mit dieser Reaktion wird eine dünne Beschichtung aus Polymethylmethacrylat (PMMA) auf der Substratoberfläche erzeugt. Sobald diese dünne Beschichtung aus PMMA vorhanden ist, kann der Photoresist dann dem Licht ausgesetzt werden, um das Polymethylmethacrylat wegzuätzen. Dies ermöglicht eine präzise Auflösung der Merkmale in der Fotomaske. Diese Ressource ist für die Verarbeitung großer Photolackflächen mit höchster Genauigkeit, Flexibilität und Wirtschaftlichkeit ausgelegt. Es verwendet ein leichtes, leicht zu manipulierendes Design, das einstellbar ist, um verschiedene Größen von Photomaske oder Substrat aufzunehmen. Das Modell enthält auch eine große Menge an Verarbeitungstalent und Prozessfähigkeit. Dies ermöglicht eine große Kontrolle des chemischen Prozesses sowie eine benutzerfreundliche Umgebung, die einen einfachen Zugang zu Ressourcen ermöglicht. Die chemische Verarbeitungsfähigkeit von PWM 32 Photoresist-Geräten ist einzigartig und bietet außergewöhnliche Qualität. Es ermöglicht eine hochauflösende Wiedergabe von Merkmalen, auch bei sehr kleinem Maßstab, mit der Möglichkeit von feinen Details bis zu 0,5 Mikrometer Größe. Damit eignet es sich gut für Anwendungen in Branchen, die Präzision wie Elektronik und Halbleiterfertigung erfordern. Darüber hinaus ist das System sehr zuverlässig und kostengünstig und bietet gleichbleibende Qualität in kurzer Zeit. Insgesamt ist PWM32 Photolackeinheit eine zuverlässige, genaue und kostengünstige Photomaskiermaschine, die für eine Reihe von lithographischen Anwendungen gut geeignet ist. Durch die Kombination von leichten und chemischen Prozessen ist es in der Lage, komplexe Strukturen und Formen mit Präzisionsgenauigkeit und Zuverlässigkeit zu reproduzieren. Darüber hinaus ermöglicht sein benutzerfreundliches Design eine große Kontrolle des chemischen Prozesses und einen einfachen Zugang zu Ressourcen, was es zu einer attraktiven Option für viele Branchen macht.
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