Gebraucht HEADWAY PWM 32 #9153890 zu verkaufen

HEADWAY PWM 32 Photoresist ist ein anspruchsvolles Werkzeug für die Lithographie integrierter Schaltungen. Es ist für den Einsatz bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen ausgelegt. Das System kombiniert eine Laserquelle mit variabler Frequenz mit kundenspezifischer Software für die Anwendung von Photolackmaterial auf dem Substrat. HEADWAY PWM32 's Variable Frequency Laser Source bietet extrem hohe Leistung und schnelles Ansprechen über eine extrem breite Palette von Betriebsparametern. Dies umfasst eine breite Palette von Wellenlängen und Leistungsstufen, von 0 - 8W @ 145mJ/cm2. Die Laserquelle verfügt zudem über eine Nahfeldeffektunterdrückung und eine schnelle Impulsfolgenprogrammierung. Die speziell entwickelte Optik erzeugt eine gleichmäßige Strahlfleckengröße über das gesamte Substrat sowie eine hervorragende Strahlsteuerung zur Präzisionsstrahlfleckplatzierung. Die Optik ermöglicht eine äußerst genaue Positionierung der optimalen Schreibpositionen für verschiedene Schaltungstypen. PWM 32 verfügt auch über benutzerdefinierte Software, die verwendet werden kann, um die Laserquelle, das Fotolackmaterial und das Substrat zu steuern. Die Software bietet eine einfache und intuitive Benutzeroberfläche. Es ermöglicht die volle Kontrolle der Laserleistung und Pulsrate sowie die Fähigkeit, bestimmte Muster auszuwählen und zu speichern. Die Software kann auch verwendet werden, um die Photolackdicke genau zu messen und ihre Anwendung zu steuern. Das innovative Design von PWM32 bietet zudem eine Selbstkalibriereinheit zur präzisen Steuerung der Photoresist-Applikation. Die Selbstkalibriermaschine kann Änderungen in den Parametern erkennen und entsprechend anpassen, um eine genaue und konsistente Photoresist-Anwendung über das Substrat zu gewährleisten. Insgesamt ist HEADWAY PWM 32 Photoresist Tool ein fortschrittliches, zuverlässiges und äußerst vielseitiges Werkzeug für die Lithographie integrierter Schaltungen. Es bietet eine hervorragende Präzision und Kontrolle, auch bei hohen Empfindlichkeiten, und seine Selbstkalibrierung macht es zu einem hochgenauen und zuverlässigen Modell für Photoresist-Anwendungen.