Gebraucht HEADWAY PWM101 #168411 zu verkaufen
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ID: 168411
Photo-Resist Spinner Remote Control Panel
Specifications:
Model Number: 1-PWM101-ECR485
Speed Range: 25 to 7,500 rpm (for PM systems), 25 to 10,000 rpm (for EC systems)
Adjustable Acceleration: 0.5 to 30 seconds to full rpm (within inertial loading limits)
Adjustable Deceleration: 0.5 to 30 seconds stop from full rpm (within inertial loading limits)
Spin Time: 1 to 999 seconds
Utility Requirements:
Power: 120/240 VAC, 50/60 Hz, Single Phase, 8 Amps starting surge, nominal 2 amp running current
Vacuum: 23" Hg.
HEADWAY PWM101 Photoresist Equipment ist ein UV-Lichtbelichtungssystem, das für die direkte Abbildung von Photoresist-Anwendungen entwickelt wurde. Das Gerät ist mit einem integrierten „Direct-Imaging“ -Mikroskop ausgestattet, das eine verbesserte Bildbetrachtung und genaue Positionierung in Verbindung mit dem Photoresist-Wafer ermöglicht. Außerdem ist die Maschine mit einem patentierten zweiachsigen Spiegelumlenkwerkzeug ausgestattet, das eine präzise Ausrichtung auf den Zielbereich der Photolackscheibe gewährleistet. Das Design der Anlage ermöglicht es dem Anwender auch, Belichtungsintensitäten mit den variablen Lichtquellen zu variieren, was eine genaue Kontrolle über den Photolackprozess ermöglicht. Das Modell ist mit einer präzisen doppelsträngigen Quarzlichtquelle ausgestattet, die den unterschiedlichen spektralen Empfindlichkeiten des Photolacks entspricht. Diese doppelsträngige Quarzlichtquelle hat eine gleichmäßige Gleichmäßigkeit der Lichtintensität und eine langfristige Zuverlässigkeit. Die Lichtquelle ist auch in einem integrierten Sicherheitsschild und einer Glaskammer dicht untergebracht, die den Lichtverlust durch die Ausrüstung reduziert. Darüber hinaus verfügt das System über eine proprietäre Spiegelumlenkeinheit, die eine präzise Zuführung des Photolackmaterials in den richtigen Bereich ermöglicht. Die Maschine verwendet einen mechanischen Antrieb, der in einer zweiachsigen X-Y-Richtung arbeitet und eine genaue Platzierung des Photolackmaterials im richtigen Bereich ermöglicht. Bei einer Auflösung von 1,5 µm und einer Wiederholbarkeit von 0,01 µm ist die Positionierung des Photolackmaterials hochgenau und präzise. Schließlich verfügt das Tool auch über eine Computersteuerungsschnittstelle, die eine einfache Einrichtung und Bedienung von Assets ermöglicht. Die Software ist in das Modell integriert und dient zur Einstellung der Lichtquellenintensitäten, Kamerabelichtungen und Spiegelwinkel, um das gewünschte Ergebnis zu erzielen. Dies ermöglicht dem Anwender schnelle Anpassungen und die Feinabstimmung der Fotolackverarbeitung ohne manuellen Eingriff oder Hardware-Austausch. Zusammenfassend ist PWM101 Photoresist Equipment ein hochentwickeltes System, das eine präzise und genaue Kontrolle des Photoresist-Prozesses ermöglicht. Das Gerät verfügt über eine langfristige Zuverlässigkeit und Vielseitigkeit sowie einstellbare Lichtquellenintensitäten, Kamerabelichtungen und Spiegelwinkel. Die Maschine verfügt auch über eine Computersteuerungsschnittstelle, die es einfach zu bedienen macht und es ermöglicht, benutzerdefinierte Einstellungen schnell und effizient anzupassen.
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