Gebraucht HEADWAY PWM32-PS-R790 #9113178 zu verkaufen

HEADWAY PWM32-PS-R790 ist ein verbessertes Photoresist-System, das ein überlegenes Beschichtungsverfahren für eine Vielzahl von Substraten bietet. Es verwendet ein zweidimensionales Array von LEDs, um eine gleichmäßige Schicht von Photolack auf dem Substrat zu erzeugen. Die LEDs erzeugen weißes Licht mit hoher Intensität, um das Fotolackmaterial zu mustern, und die Präzisionsgenauigkeit des Arrays sorgt für eine überlegene Substratabdeckung. PWM32-PS-R790 Photolacksystem verfügt über ein steuerbares Pulsweitenmodulationslaufwerk (PWM), um eine präzise Strukturierung des Photolackmaterials zu ermöglichen. Die Kombination aus präzisem Antrieb und hochintensivem Licht bietet eine überlegene Abdeckung mit minimalen Kollateralschäden am Substrat. Die verbesserten Strukturierungsmöglichkeiten ermöglichen engmaschige Muster, eine präzise Linienbreitenkontrolle und die Eliminierung von Über- oder Unterbelichtung des Substrats. HEADWAY PWM32-PS-R790 enthält auch eine hochauflösende Bildaufnahmekamera zur Validierung des Fotolackmusters. Die Kamera erfasst präzise Bilder des gemusterten Fotolacks und ermöglicht eine detaillierte Validierung und Überprüfung der Photolackschicht vor der Optimierung. Die Kamera verfügt auch über verschiedene Bildverarbeitungsfunktionen, um die Strukturierung der Fotolackschicht zu optimieren. Zusätzlich zu seinen überlegenen Musterfähigkeiten verwendet PWM32-PS-R790 auch proprietäre chemische Lösungen und Verarbeitungstechniken, um eine maximale Leistung der Photolackschicht zu gewährleisten. Techniken wie hochempfindliches Ätzen und chemische Adhäsion unterstützen die gleichmäßige Abdeckung des Substrats und die gleichbleibende Qualität der Photolackschicht. Insgesamt bietet HEADWAY PWM32-PS-R790 Photoresist-System eine umfassende Lösung, um die Substratabdeckung zu verbessern und eine präzise Strukturierung zu ermöglichen. Die Intensität des LED-Arrays, das steuerbare Pulsweitenmodulationslaufwerk und die hochauflösende Bildaufnahmekamera ermöglichen eine überlegene Leistung der Fotolackschicht mit minimalen Kollateralschäden des Substrats. Die präzisen Muster- und chemischen Verarbeitungslösungen ermöglichen qualitativ hochwertige Ergebnisse und sorgen für eine optimale Leistung der Photolackschicht.