Gebraucht HOLLMULLER BAD-ADY / 65 #9016241 zu verkaufen

HOLLMULLER BAD-ADY/65 ist eine fortschrittliche Photolackausrüstung, die in der Halbleiterindustrie weit verbreitet ist. Es besteht aus zwei Hauptschichten: der darunter liegenden (und oft semi-permanenten) Photoresistschicht und der oberen „adiabatischen“ Schicht. Die Photolackschicht besteht aus einem lichtempfindlichen Polymermaterial. Wenn ein Lichtmuster dieser Schicht ausgesetzt wird, löst sich das Polymermaterial auf und hinterlässt ein Muster von Löchern in der Photolackschicht, das nur durch die adiabatische Schicht sichtbar ist. Die adiabatische Schicht besteht aus einem Material auf Epoxidbasis, das eine gleichmäßige und kontinuierliche Schicht über die gesamte Oberfläche gewährleistet. Es ist diese Schicht, die die „schützende“ Barriere gegen den darunter liegenden Photoresist liefert, weil sie die Menge an einfallendem Licht reduziert, das die Photoresistschicht erreicht. Dadurch bleibt das Lochmuster konstant und vorhersagbar, egal welche Variablen in das System eingebracht werden. BAD-ADY/65 ist ideal für die Halbleiterherstellung, da es hohe Präzision und Genauigkeit ermöglicht. Es hat auch ein gewisses Maß an Flexibilität in Bezug auf die Beleuchtungsquellenbelichtung, so dass eine breite Palette von Belichtungszeiten unterschiedliche Ergebnisse zu erzielen. Die Maschine verfügt über eine Oberflächenpassivierungsschicht, die verhindert, dass elektrische Ladeeffekte auf das fertige Produkt auftreten, wodurch die Ausbeute des Produkts erhöht wird. Das Werkzeug hat auch einen Post-Exposure Bake (PEB) Prozess, der hilft, das erzeugte Muster zu härten. Dies hilft, die Schrumpfung des Photolacks zu verringern, der erzeugt wird, wenn Licht ihm ausgesetzt wird, wodurch etwaige Unstimmigkeiten in den optischen Eigenschaften des Endprodukts vermieden werden. Schließlich ist es auch in der Lage, eine ausgezeichnete bildgebende Auflösung zu erreichen, was zu Produkten mit einem hohen Maß an Detail und Klarheit führt. Insgesamt ist das 1002HOLLMULLER HOLLMULLER BAD-ADY/65 Photoresist Asset eine gute Wahl für alle, die hohe Qualität, Präzision und Genauigkeit mit ihrem Halbleiterherstellungsprozess erreichen möchten. Seine gleichmäßige, adiabatische Schicht bietet eine effektive und zuverlässige Barriere gegen einfallendes Licht, während der PEB-Prozess und die Oberflächenpassivierungsschicht für weiteren Schutz und Genauigkeit sorgen. Zusätzlich zu all dem ermöglicht die Vielseitigkeit des Modells eine breite Palette von Belichtungszeiten, abhängig von den Bedürfnissen des Benutzers.