Gebraucht HONGSU BOE #9328964 zu verkaufen

Hersteller
HONGSU
Modell
BOE
ID: 9328964
Wafergröße: 5"
Photoresist removal system, 5" DI Water: Average flow LPM: 90 Maximum pressure: 2.5 kg/cm² Temperature: RT Resistance Ω: >18 Caliber inch: 11/2" Gases: CDA: Maximum pressure: 7 kg/cm² Minimum flow: 400 Pipe: SUS316 Connector: SWAG Caliber inch: 1/2" N2: Maximum pressure: 7 kg/cm² Minimum flow: 200 Pipe: SUS316 Connector: SWAG Caliber inch: 3/8" Filter: 1um H2SO4: Maximum flow: 5 PFA Pipe Flare connector Caliber: 1/2" H2O2: Maximum flow: 5 PFA Pipe Flare connector Caliber: 1/2" Acid exhaust: Maximum pumping volume CFM: 450 PP Pipe Flange connector Caliber inch: 8" Power supply: Single-phase, 220 V 3-wire, 210 A, 46.2 kVA.
HONGSU BOE ist eine Photoresist-Ausrüstung, die bei der Herstellung von hochpräzisen mikroelektronischen Geräten verwendet wird. Das System ist ein aufgesponnenes Photolackmaterial mit eingebauter Schutzschicht, die Zuverlässigkeit und Stabilität in einer mikroelektronischen Freiform bietet. Es wurde speziell für die Anforderungen des modernen Gerätedesigns entwickelt. Das Photolackmaterial wird auf das Substrat der mikroelektronischen Vorrichtung gesponnen. Anschließend wird das empfindliche Material UV-Licht ausgesetzt, was die Eigenschaften des belichteten Materials selektiv verändert. Ist das gewünschte Muster erstellt, wird der überschüssige, ungehärtete Photolack entfernt. Dies kann entweder durch Plasmaätzen, naßchemisches Ätzen oder Laserbearbeitung erfolgen. BOE ist eine vollständig entwickelte Einheit, die auf alle Aspekte des Photoresist-Prozesses zugeschnitten werden kann, einschließlich, aber nicht beschränkt auf, Prozessschritte der Entwicklung, Ätzung und schließlich Aushärtung, mit Trockenfilm- und/oder Nassfilmtechnologie. Die resultierende Vorrichtung ist feuchtigkeits- und umweltverschmutzungsbeständig, was zu einem Abbau in Photoresistgeräten führen kann. Dies ist ein Ergebnis der auf der HONGSU BOE-Maschine vorhandenen Schutzschicht. BOE-Tool bietet Vorteile gegenüber anderen Systemen, insbesondere weil es eine wesentlich höhere Stabilität und Zuverlässigkeit ermöglicht. Das Photolackmaterial ist so konzipiert, dass es stabil bleibt und seine Integrität während der Herstellung beibehält, was zu weniger Defekten und einer besseren Zuverlässigkeit des Geräts führt. Zudem ermöglicht die Anlage durch ihre ausgerichtete lichtempfindliche Schicht und fokussierte Lichtquelle eine hohe Präzision im Photolithographieverfahren. Dadurch wird sichergestellt, dass das Gerät jedes Mal konsistente Ergebnisse liefern kann. Schließlich verwendet das BOE-Modell HONGSU fortschrittliche Werkzeuge und Techniken, um sicherzustellen, dass das hergestellte mikroelektronische Gerät von höchster Qualität ist. Die Geräte wie die rotierende Waferstufe, die Vakuumausrüstung und der Monitor sind alle auf die Anforderungen des Photoresist-Systems abgestimmt und ermöglichen die effiziente und genaue Leistung des Photolithographie-Prozesses. Dies ermöglicht kundenspezifische, zuverlässige Prozesse für jede Anwendung und hilft, den Herstellungsprozess zu vereinfachen. Abschließend ist BOE eine umfassende Photolackeinheit, die zuverlässige und konsistente Ergebnisse liefert. Es ist speziell für mikroelektronische Geräte konzipiert und verfügt über eine präzise Antriebsmaschine und eine Schutzschicht. Dieses Tool bietet auch hohe Stabilität und Genauigkeit und ist einfach zu bedienen und zu warten. Insgesamt ist HONGSU BOE ein ideales Photoresist-Asset für komplexe, hochpräzise Gerätedesign.
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