Gebraucht HONGSU BOE #9328982 zu verkaufen

HONGSU BOE ist eine Photoresist-Ausrüstung, die eine dünne Polymerfilmbeschichtung auf Oberflächen erzeugt. Dieses Photolacksystem verwendet ein lichtempfindliches Gemisch aus einem Photoinitiator und einem polymeren Bindemittel. Der Zweck des polymeren Bindemittels besteht darin, dem Photoresist seine physikalischen Eigenschaften zu verleihen. Der Photoinitiator soll die radikalische Polymerisation des Bindemittels erleichtern, wenn es ultraviolettem Licht ausgesetzt ist. Die Photolackeinheit dient zur Erstellung von Mustern, zum Ätzen elektronischer Bauelemente und zur Bildung von Metallisierungen auf Substraten. BOE bietet eine Vielzahl von Photoresists mit verschiedenen Eigenschaften wie Löslichkeit, Viskosität und die Fähigkeit, spezifischen chemischen Ätzmaterialien zu widerstehen. Dieser Photolack ist eine Trockenfilmalternative zu flüssigen Photolacksystemen. Beim Aufbringen des Photolacks auf ein Substrat wird HONGSU-BOE-Film in einem dünnen Film aufgebracht. Die Folie kann mittels Schleuderbeschichtung, Gießen, Tauchen oder Sprühen aufgebracht werden. Sobald die Photolackbeschichtung vorhanden ist, wird das Substrat mittels eines Photolithographiedruckers ultravioletter Strahlung ausgesetzt. Die Lichtmoleküle brechen bei der ultravioletten Belichtung auseinander und führen zu Radikalen auf dem Photoresist. Dadurch wird eine Reihe von Reaktionen ausgelöst, die die Polymerisation des Photolacks in eine kohärente Masse, die auf dem Substrat haftet, bewirken. Der belichtete Bereich härtet aus und bildet bei der Entwicklung ein Reliefmuster. Nach der Entwicklung wird das lichtempfindliche Material entfernt und das Reliefmuster auf dem Substrat zurückgelassen. Das Reliefmuster ist das gewünschte Muster und dient als Ätzmaske. Die Ätzmaske beschreibt den aus dem Substrat herauszuätzenden Bereich, wie die signifikanten Muster elektronischer Bauelemente. Nach dem Ätzvorgang wird der Rückstand des Photolacks entfernt, um das organische oder anorganische Material des Substrats freizulegen. Abschließend ist BOE eine Photolackmaschine, mit der Muster auf Substraten erzeugt werden. Dieses Werkzeug erfordert das Aufbringen eines Dünnfilm-Photoresists auf das Substrat, die Bestrahlung mit ultravioletter Strahlung und die Entwicklung des Photoresist-Reliefs. Dieser Photoresist ist aufgrund seiner effizienten und effektiven Ergebnisse in den Bereichen Elektronik, Metallisierung und Strukturierung sehr beliebt.