Gebraucht HONJIG HJ-W201 #9153419 zu verkaufen

HONJIG HJ-W201 Photoresist Equipment eignet sich für die Entwicklung und Druckprüfung eines breiten Spektrums von Photoresists. Das System bietet eine Reihe von Funktionen, die die Entwicklung neuer Photolackprodukte einfacher, genauer und vielseitiger machen. Das Gerät enthält fortschrittliche lithographische Werkzeuge zur Erleichterung der reproduzierbaren, zuverlässigen Photolackentwicklung. Dazu gehören ein einstellbarer erweiterter ArF-Laser mit niedrigem Hintergrund und ein erweiterter ArF-Scanner mit zwei Wellenlängen. Diese Komponenten sorgen für eine präzise Entwicklung von Photoresists, die den Effekt der Wellenlänge bei Layoutentscheidungen berücksichtigen. Darüber hinaus verfügt die Maschine über eine temperaturgesteuerte Photofinischkammer, die die Leistung einer Vielzahl von Photolackprodukten verbessert. Dieses Tool umfasst auch berührungslose messtechnische Geräte, um die Qualität der Lithographie zu überprüfen, nämlich ein Videomikroskop, das eine hochauflösende Bildgebung für kleine Merkmale erreicht, und ein konfokales Mikroskop für hochauflösende Bildaufnahme. Das Asset bietet auch eine Vielzahl von Datenausgabeoptionen, einschließlich 20Gbps Ethernet, USB 3.0 und FireWire. Das Modell bietet Anwendern eine umfassende Reihe von Analysen und visuellen Tools zur Überwachung und Verfolgung der Photoresist-Entwicklung. Es stehen Spektrometrie-Modus- und Verarbeitungsmodus-Displays zur Verfügung, um Echtzeit-Feedback zu Entwicklungsergebnissen zu liefern. Die Nachverfolgung von Produktionsabläufen und die Generierung von Protokollierungsdiagrammen geben zudem einen besseren Einblick in die Entwicklung von Trends. Das Gerät verfügt auch über Hochgeschwindigkeits-Servosteuerung, die Stabilität der Auslegung über einen Bereich von Temperaturen gewährleistet, die Verbesserung der Gesamt-System Wiederholbarkeit. HJ-W201 Photoresist Unit ist eine Frühphasen-Lösung, die die Leistung des Labors bei geringen Kapitalinvestitionen ermöglicht. Es bietet Anwendern zuverlässige, wiederholbare Photoresist-Entwicklung und eine umfassende Suite von Analysewerkzeugen, um Ergebnisse zu überwachen. Darüber hinaus eignen sich die fortschrittlichen lithographischen Werkzeuge und der fortschrittliche ArF-Laser gut für die Entwicklung von Photoresisten im großen Maßstab. Diese Maschine wurde entwickelt, um die Effizienz und Wiederholbarkeit zu maximieren und gleichzeitig qualitativ hochwertige Photolackprodukte herzustellen.