Gebraucht INTELLIGENT MICRO PATTERNING SF-100 Xpress #9224122 zu verkaufen
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ID: 9224122
Maskless lithography system
Mercury arc lamp: Energies g-, h-, and i-line
6 Position filter wheel for choosing wavelength spectra
Field-proven optical design:
Integrated with patented smart filter technology
Auto-focusing:
Integrated CCD camera for in-line substrate viewing
Standard optical functions
Automated XYZ stage: 1-Button operation and auto stitching
Labwindows™ based vision developers module
Rapid prototyping.
INTELLIGENT MICRO PATTERNING SF-100 Xpress ist eine hochmoderne Photoresist-Ausrüstung für hochpräzise Lithographie und andere fortschrittliche Musteranwendungen. Dieses System ist für den Einsatz in anspruchsvollen Produktionsumgebungen konzipiert und liefert außergewöhnliche Auflösung und messbare Ergebnisse. SF-100 Xpress ist spezialisiert auf hochauflösende Bildgebung und eine breite Palette von Funktionsgrößen, so dass es perfekt für feines Detail, hochvolumige Lithographie. INTELLIGENT MICRO PATTERNING SF-100 Xpress nutzt die neuesten Entwicklungen in der Photoresist-Verarbeitungstechnologie, wie optimierte Lichtbelichtung und High-End-Entwickler-Prozesssteuerung, sowie automatisierte Prozesse, die für mehr Geschwindigkeit und Genauigkeit sorgen. Das Gerät ist benutzerfreundlich konzipiert und enthält eine einfach zu bedienende Kalibriersoftware, die an die Benutzeranforderungen und Betriebsbedingungen angepasst werden kann. Die Maschine beinhaltet auch einen kompletten Satz von Prozesswerkzeugen, um selbst für anspruchsvollste Prozesse den höchstmöglichen Durchsatz und die Effektivität zu gewährleisten. Das Tool verwendet ein ausgeklügeltes bildgebendes Element, um Präzisionsmuster mit einer Vielzahl von Formelementgrößen und Überhängen zu erzeugen. Das fortschrittliche Modell kann Muster mit einer oberen Merkmalsgröße von 100 cm-1 und unteren Merkmalsgrößen von 1,5 cm-1, sowohl mit hoher Genauigkeit und Gleichmäßigkeit. Das Gerät wurde entwickelt, um Ergebnisse mit minimaler Belichtung zu liefern, und es kann eingerichtet werden, um mehrere Schichten zu produzieren, ohne die Benutzereinstellungen anzupassen. Das System ist so konzipiert, dass es reibungslos und schnell läuft und bietet Benutzern eine Auswahl an Auflösungen, die den Durchsatz maximieren. SF-100 Xpress kann verwendet werden, um eine breite Palette von Photolackmaterialien zu verarbeiten, einschließlich Photoresists auf Polyimidbasis, Photoresists auf Siliziumbasis, Photoresists auf Plastomalbasis und anderen Materialien, die fortschrittliche Lithographieverfahren erfordern. INTELLIGENT MICRO PATTERNING SF-100 Xpress kann auch einfach konfiguriert werden, um additive und geschichtete Musterprozesse zu unterstützen. Trotz seiner fortschrittlichen Funktionen wurde SF-100 Xpress entwickelt, um sowohl zugänglich als auch kostengünstig zu sein. Sein Engagement für hochwertige Bildgebung trägt dazu bei, dass Benutzer präzise, konsistente und kostengünstige Ergebnisse erhalten. Letztendlich ist dieses Gerät die perfekte Kombination aus Stärke und Geschwindigkeit, die den Anwendern Präzisionsmuster und kostengünstige, effiziente Ergebnisse liefert.
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