Gebraucht INTELLIGENT MICRO PATTERNING SF-100 #9390791 zu verkaufen
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ID: 9390791
Weinlese: 2009
Maskless lithography system
Maximum size of substrates: 200 mm x 200 mm
Wavelength: 365-578 nm
Mercury lamp: 200 W (Resource of work 1000 hours)
Minimum element size: Up to 1 µm
Grayscale exposure: 768 Levels
Vision system: CCD Camera
Control: Standard PC, User interface
Data format: BMP, DXF
Automatic focusing
Semi-automatic combination
Optics: Standard optics, high resolution optics
Backing plate
XY-Axis travel:
Accuracy: ±200 nm
Repeatability: ±50 nm
Z-Axis travel:
Total travel: 25 mm
Accuracy: ±200 nm
Repeatability: ±75 nm
Theta movement:
Rotation: 360°
Accuracy: ±5 arc sec
Repeatability: ±2 arc sec
Vibration protection: Anti-vibration base
Vacuum: -0.6 bar
Pneumatic supply: 5-6 bar, 0.5 m³/h
Power supply: 200 V, 50-60 Hz, 7 kW (Maximum)
2009 vintage.
INTELLIGENT MICRO PATTERNING SF-100 INTELLIGENT MICRO PATTERNING Equipment ist ein hochmodernes Photoresist-System, das in Anwendungen wie der Herstellung von Halbleiterbauelementen und der Mikroherstellung eingesetzt wird. Es verwendet ausgefeilte Bildverarbeitungstechnologie, um hohe Genauigkeit und Präzision für die Mikrostrukturierung von Produkten zu bieten. SF-100 Einheit verwendet eine einzigartige doppelte Belichtungstechnik und eine gut definierte Lichtquelle, um eine hervorragende Auflösung und Gleichmäßigkeit der Funktionen zu erreichen. INTELLIGENT MICRO PATTERNING SF-100 verfügt über hochpräzise optische Positioniersysteme, die es ermöglichen, die Photolackschicht exakt auf das Gerätesubstrat auszurichten. Es verfügt auch über eine automatisierte Belichtung und entwickeln Modul, das gewährleistet, dass der Fotolack ausreichend belichtet wird. Dieses Modul kann auch eine Strukturierung mit hoher und mittlerer Auflösung unterstützen, die sicherstellt, dass mögliche Fehler durch unsachgemäße Belichtung minimiert werden. SF-100 verfügt auch über ausgeklügelte Prozessleitsysteme, mit denen die Photolackschicht einheitlich und richtig entwickelt werden kann. Dies ist wesentlich, um hochgenaue Muster zu erreichen. Die Maschine enthält auch einen Laser Writehead, der Laser verschiedener Wellenlängen verwendet, um Muster direkt auf den Fotolack zu schreiben. Das Werkzeug ist mit einem hochauflösenden optischen Abbildungsmaterial ausgestattet, das vom Benutzer bestimmt werden kann. Es kann verwendet werden, um feine Musterung mit Eigenschaften kleiner als 5 um zu erleichtern. Dieses Modell kann für Lithographieaufträge verwendet werden, die feinere Details wie Gräben, Rillen oder Gruben beinhalten. INTELLIGENT MICRO PATTERNING SF-100 INTELLIGENT MICRO PATTERNING Equipment bietet maximale Flexibilität in Bezug auf Druck und Entwicklung. Es verfügt sowohl über einen Batch- als auch einen Dauerbetrieb, um hochkomplexe Aufträge besser aufnehmen zu können. Es hat auch eine Reihe von kompatiblen Beschichtungen und Photolackmaterialien, um verschiedene Geräteanwendungen anzupassen. SF-100 intuitive grafische Benutzeroberfläche ist einfach zu bedienen. Es ermöglicht seinen Benutzern, Einheitsparameter schnell und genau anzupassen. Es umfasst auch mehrere Sicherheitssysteme, um sicherzustellen, dass der Photolack und die Gerätesubstrate während des gesamten Prozesses in einem unberührten Zustand gehalten werden. INTELLIGENTE MIKROMUSTERUNG SF-100 INTELLIGENTE MIKROMUSTERMASCHINE ist ein unschätzbares Werkzeug zur Herstellung hochwertiger, ultrapräziser Mikromuster. Es hat die Fähigkeit, enge Merkmalsmuster für eine Vielzahl von Anwendungen zu erzeugen, von der Halbleiterbauelementherstellung bis zur Mikromaschinenbearbeitung. Mit seinem zuverlässigen Betrieb und den präzisen Ergebnissen ist SF-100 perfekt für höchste Gerätegenauigkeit und Reproduzierbarkeit.
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