Gebraucht IVI 2205 #9156740 zu verkaufen

IVI 2205 Photoresist Equipment ist ein Mustertransfer-Bildgebungssystem, das entwickelt wurde, um eine präzise Abbildung von Photomasken und anderen Leiterplatten oder Substraten zu erstellen. Es ermöglicht Benutzern die Mustertransfer durch eine Vielzahl von Lithographieverfahren, wie Siebdruck, Heißprägung, Laserschneiden, oder Trockenfilm Fotoresist Bildgebung. Es verfügt über eine Wellenlängenauswahl von 405nm bis 365nm und ist somit ideal für eine Vielzahl von Photolithographieaufgaben. Das Gerät bietet auch Bildgebungsgeschwindigkeiten von bis zu 800mm/s bei einer Mindestauflösung von 0.04um. 2205 verwendet eine einzigartige optische Bildgebungsmaschine mit einer dosierten monochromatischen Lichtquelle. Diese Lichtquelle ist mit einem Bildsensor verbunden, der die gesamte zu übertragende Photomaske oder das gesamte Substrat überwacht. Zur Erzeugung des gewünschten Bildes werden lichtempfindliche Materialien verwendet. Die Lichtquelle ist je nach durchzuführendem Verfahren entweder ein kontinuierlicher Laser oder ein gepulster Laser. Das Tool verfügt über einen digitalen Filter, der verwendet wird, um die Wellenlänge des Lichts zu steuern und eine ordnungsgemäße Bildauflösung zu gewährleisten. Dieses Filter ist in der Lage, eine Breite einer Wellenlänge zu liefern, wodurch eine gleichmäßige Belichtung der Photomaske oder des Substrats gewährleistet ist. Darüber hinaus kann das Asset für fortgeschrittene Prozesse wie Heißprägen verwendet werden, so dass Benutzer kompliziertere Muster auf auch kleine Oberflächen übertragen können. IVI 2205 verfügt über ein vollautomatisches Modell, mit dem Benutzer schnell und präzise Mustertransfer durchführen können. Es ist auch auf die Optimierung der Produktionsniveaus ausgelegt, wodurch die Zeit und der Aufwand für die Fertigstellung von Photomasken erheblich reduziert werden. Darüber hinaus verfügt das Gerät über eine intuitive grafische Benutzeroberfläche, die es Anwendern erleichtert, den Musterübertragungsprozess zu steuern. 2205 ist so konzipiert, dass es zuverlässig und langlebig ist und somit eines der effizientesten Photomasken-Mustertransfersysteme auf dem Markt ist. Es ist auch unter Berücksichtigung von Sicherheitsprotokollen konzipiert, die die Beschädigung der Photomaske oder des Substrats bei der Musterübertragung begrenzen. Darüber hinaus ist es aufgrund seiner kompakten Größe einfach, in jede Labor- oder Produktionsumgebung zu passen. Alles in allem ist das IVI 2205 Photoresist System eine ideale Lösung für effiziente und präzise Mustertransfers in einer Vielzahl von Photolithographie-Prozessen.