Gebraucht JEOL JFC-1600 #9261178 zu verkaufen

JEOL JFC-1600 ist ein Photoresist-Gerät zur Erzeugung feiner Strukturen auf einem Substrat mit einer Kombination aus Licht und UV-Strahlung. Dieses Gerät verwendet einen hochpräzisen Masken-Aligner, der in der Lage ist, eine vorgemusterte und vorbelichtete Fotolackmaske genau auf ein Substrat zu positionieren. Der Maskenausrichter hat eine Stufenauflösung von 200 Sub-Mikron, was eine hochpräzise lithographische Strukturierung ermöglicht. JEOL JFC 1600 verwendet i-line ultraviolettes Licht für die Belichtung. Mit diesem Licht wird die sensibilisierte Substratschicht belichtet, wobei eine chemische Reaktion mit dem Photolack zu einem dauerhaften Muster ausgelöst wird. Zur Steuerung der Belichtungsenergie und des optischen Profils der belichteten Substratschicht ist die Intensität des Lichts einstellbar. Neben der Lichtbelichtung bietet JFC-1600 auch einen Ätzprozess. Der Ätzprozess verwendet Plasma in einer kontrollierten Umgebung, um das gewünschte Muster auf dem Substrat zu erzeugen. Der Plasmaätzprozess gewährleistet eine saubere Oberfläche mit hoher Genauigkeit und eliminiert eventuell verbleibende Rückstände aus dem Photoresistfilm. JFC 1600 verwendet ein Schienenplatzierungssystem, um das gewünschte Muster schnell und genau auf dem Substrat zu positionieren. Diese Einheit vereinfacht den lithographischen Strukturierungsprozess und sorgt dafür, dass das belichtete Substrat genau platziert und ausgerichtet wird. Schließlich stellt JEOL JFC-1600 auch eine Heizmaschine zur Verfügung, die eine Hochtemperatur-Substratbindung ermöglicht. Dieses Verfahren ist sehr wichtig, um eine sichere Haftung des gewünschten Musters auf der Substratschicht zu gewährleisten. Der Hochtemperaturbindevorgang ermöglicht auch eine verbesserte Haftung des Musters auf der Substratoberfläche. JEOL JFC 1600 ist ein hocheffizientes und genaues Photolackwerkzeug, das eine präzise Steuerung des Musterprozesses ermöglicht. Diese Vorrichtung ist in der Lage, feine lithographische Muster innerhalb enger Toleranzen zu erzeugen, wodurch das gewünschte Muster sicher auf dem Substrat haftet.