Gebraucht KARL SUSS ACS 200 Plus #293738220 zu verkaufen

KARL RUß ACS 200 Plus ist eine Photolackanlage für hochpräzise Lithographie- und Ätzanwendungen. Das System bietet ein automatisiertes Verfahren zur Entwicklung und Verarbeitung einer Vielzahl von Photolacken, um eine genaue Strukturierung oder Ätzung auf einer Vielzahl von Substraten zu gewährleisten. Diese Einheit kann verwendet werden, um Merkmale mit einer seitlichen Auflösung bis zu 0,5 μ m zu mustern. Es funktioniert, indem das Substrat einem Lichtstrahl mit einer feinen Laserquelle ausgesetzt wird. Die Lichtbelichtung wird verwendet, um die Empfindlichkeit des Photolacks zu verändern. Der veränderte Photoresist reagiert unterschiedlich auf nachfolgende chemische Behandlungen und ist je nach verwendetem Photoresist entweder mehr oder weniger beständig gegen Lösungsmittel oder Ätzmittel. Dadurch kann der Benutzer ein klares und genaues Muster auf dem Substrat erstellen. Das fortschrittliche Mikroskop der Maschine ermöglicht die genaue Visualisierung und Inspektion einer Vielzahl von Wafern und Substraten. Es hat auch eine Positionsgenauigkeit von 3 μ m und stellt sicher, dass unabhängig von der Größe oder Form des Substrats das Muster genau aufgetragen wird. Die lasergesteuerte Strahlengröße bietet eine gleichmäßige Belichtungsintensität mit punktgenauer Genauigkeit und liefert präzise Merkmalsgröße und genaue Strukturierung. ACS 200 Plus hat die Fähigkeit, eine kritische Dimension (CD) Genauigkeit von ± 10% innerhalb eines vorbestimmten Maskenbereichs zu erreichen. Es hat auch die Fähigkeit, komplexe Maskettendesigns zu verwenden. Das Tool verfügt auch über ein Prozessmanagement-Asset, das mehrere Prozesse parallel überwachen und steuern kann. Auf diese Weise kann das Modell eine große Anzahl von Substraten in einem einzigen Lauf verarbeiten und ist somit eine ideale Wahl für die Herstellung von Photomasken und hochvolumige/hocheffiziente Produktionsprozesse. Darüber hinaus verfügt KARL RUß ACS 200 Plus über eine hervorragende Temperaturregelung und eine fortschrittliche Gasflussregelung, die höchste Reproduzierbarkeit bei der Verarbeitung von Wafern und Substraten gewährleistet. Seine Flexibilität ermöglicht den Einsatz einer Vielzahl von Substraten und Chemikalien, um sicherzustellen, dass es für viele verschiedene Anwendungen effektiv eingesetzt werden kann. Insgesamt ist ACS 200 Plus eine fortschrittliche Photolackausrüstung mit hochpräziser Funktionsauflösung, ausgezeichneter Wiederholbarkeit und der Fähigkeit, mehrere Prozesse gleichzeitig zu bewältigen. Dies macht es zu einer idealen Wahl für Photomaskenherstellung, Waferbearbeitung und Ätzen.