Gebraucht KARL SUSS / MICROTEC ACS 200 Gen3 #293819423 zu verkaufen

KARL RUß/MICROTEC ACS 200 Gen3 ist eine Photoresist-Ausrüstung mit fortschrittlichen automatisierten Lithographiefähigkeiten zur Prozessoptimierung und mehr Flexibilität. Dieses System ermöglicht automatisierte und präzise Ausrichtungs- und Belichtungsausrichtungen von Photolackmaterialien zur Herstellung von Halbleiterbauelementen. Dieses Gerät wurde entwickelt, um eine sehr genaue optische Entwicklung und Ausrichtung mit Acht-Achsen-Präzision zu ermöglichen. Die automatisierte Steuerung kann für Prozesse wie Belichtung und Entwicklung integriert werden, wodurch der Bedarf an manuellen Eingängen reduziert werden kann. Zusätzliche Funktionen wie eine automatische Nivellierung mit Bildnaht helfen, die Reproduzierbarkeit von nanoskaligen Mustern zu optimieren. MICROTEC ACS 200 Gen3 verfügt über einen eingebauten Waferlader, der bis zu vier 300mm Wafer aufnehmen kann und eine Mehrserienverarbeitung ermöglicht. Die Handhabung von Wafern wird mit Doppelstrahl-Optik verbessert, was hilft, Brandmarken während der Belichtung zu reduzieren. Es hat auch eine programmierbare UV-Belichtungszeit, die je nach Komplexität des zu entwickelnden Musters eingestellt werden kann. Der Belichtungsausrichtungsmotor für diese Maschine ist im Vergleich zu anderen ähnlichen Systemen sehr fortschrittlich. Dazu gehört eine 3-achsige Waferstufe mit verstellbarem Laserwerkzeug zur automatisierten Ausrichtung. Es verfügt auch über einen Algorithmus für die automatische Abstimmung und aktive KE-Erkennungstechnologie, um die Ausrichtung zu optimieren und die Verarbeitungszeit zu reduzieren. Die integrierte Benutzeroberfläche für dieses Asset ist recht intuitiv und benutzerfreundlich. Es verfügt über eine vereinfachte grafische Benutzeroberfläche sowie eine flexible Workflow-Engine, mit der der Bediener das Modell auf seine eigenen benutzerdefinierten Einstellungen programmieren kann. KARL RUß ACS 200 Gen3 hat die Fähigkeit, in einer eigenständigen Kapazität zu arbeiten oder in eine Cluster-Umgebung integriert zu werden. Dies ist eine wertvolle Funktion, um Kunden die einfache Bereitstellung dieser Geräte in einer oder mehreren Systemumgebungen zu ermöglichen. In einer Multi-Unit-Umgebung können Anwender problemlos Muster über Systeme übertragen und gleichzeitig die Skalierbarkeit erhöhen, wodurch die Entwicklung komplexer nanoskaliger Strukturen weiter verbessert wird. Zusammenfassend ist ACS 200 Gen3 eine fortschrittliche Photoresist-Maschine, die über umfangreiche Funktionen und Fähigkeiten verfügt, um die Prozessoptimierung zu verbessern und eine genaue Ausrichtung und Belichtung für die Herstellung von nanoskaligen Mustern zu ermöglichen. Das Tool verfügt über eine Reihe attraktiver Funktionen wie ein automatisiertes Asset mit einer intuitiven Benutzeroberfläche, eine mehrachsige Belichtungsausrichtungsengine, eine programmierbare UV-Belichtungszeit und die Möglichkeit, in eine eigenständige oder mehrere Modellumgebungen integriert zu werden.