Gebraucht KARL SUSS / MICROTEC ACS 200 #9213836 zu verkaufen
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ID: 9213836
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2000
Coater / Developer system, 8"
Material Handling Unit (MHU):
GENMARK Gencobot 8Y robot
Robot end effectors
Robot cassette scanner
Auto-sizing cassette holder
Manual-sizing cassette holder
Universal centering station
Optical prealigner
Spin coat module:
GYRSET RC 8 Spin coater
Spent chemical monitoring scale
VULCAN Dispense pump
Virgin dispense pump
MILLIPORE Wafergard Gen-2 plus pump
MILLIPORE Wafergard Chemical dispense system
Timed pump
HCV Module:
Hot plate chamber
Cold plate chamber
Vapor prime chamber
Cassette module:
Auto-sizing cassette holder
Manual-sizing cassette holder
Filler module
Chemical dispense module
Aqueous based developer module
2000 vintage.
KARL RUß/MICROTEC ACS 200 ist ein Photolacksystem zur Strukturierung von Photolackmaterialien bei der Herstellung von integrierten Schaltungen und anderen Halbleiterbauelementen. Es besteht aus drei Hauptkomponenten: einer Lichtquelle, einer Linse und einer Substratstufe. Die Lichtquelle ist ein Argon-Ionen-Laser, der kohärentes UV-Licht im Wellenlängenbereich von 350-460 nm erzeugt. Die Linse fokussiert dieses Licht auf das Substrat und erzeugt ein zweidimensionales (2D) Bild des gewünschten Musters. Die Substratstufe hält das photoresistbeschichtete Substrat, während der Laserstrahl elektronisch zur Musterbildung abgetastet wird. MICROTEC ACS200 bietet eine überlegene Photoresist-Auflösung und Wiederholbarkeit aufgrund seiner hochenergetischen, leistungsstarken einwelligen Laserquelle, die Musterverformungen durch Überlappung von Belichtungen reduziert. Die Mustergröße ist von 1 μ m bis 10 mm einstellbar und die Punktgröße kann in 0,1 μ m Stufen variiert werden. Die Substratstufe kann während der Belichtung gekippt werden, um den Winkel des einfallenden Strahls zu steuern, was für die Steuerung der Größe des Musters wichtig ist. KARL RUß ACS-200 eignet sich für Photoresistmaterialtypen wie Photoresistgläser, Polymermikrolinsen und Resiststoffe auf Epoxidbasis. Das System beinhaltet auch eine eingebaute Kühlung, um die Erwärmung des Substrats während der Belichtung zu reduzieren, und eine Fokus-Lasereinstellung vom 'Stein' -Typ, die Aberrationen minimiert und es dem Benutzer ermöglicht, eine Auflösung von Sub-Mikron zu erreichen. Darüber hinaus ist KARL RUß/MICROTEC ACS200 benutzerfreundlich mit grafischer Benutzeroberfläche und der Benutzer kann Belichtungsparameter wie Leistung, Geschwindigkeit und Belichtungszeit von der Kommandozeile oder über die GUI überwachen. Die Flexibilität von KARL RUß/MICROTEC ACS-200 ermöglicht die Durchführung mehrerer Anwendungen, wie die Belichtung von zweidimensionalen Photomasken und Kontaktlocharrays im Sub-Micron-Bereich. Insgesamt ist ACS200 ein einfach zu bedienendes Photolacksystem, das eine überlegene Auflösung und Wiederholbarkeit bei der Herstellung von mikroelektronischen Geräten bietet. Es ist robust und zuverlässig und eignet sich für verschiedene Photolackmaterialtypen.
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