Gebraucht KARL SUSS / MICROTEC ACS 200 #9365974 zu verkaufen

KARL SUSS / MICROTEC ACS 200
ID: 9365974
Coater.
KARL RUß/MICROTEC ACS 200 ist eine Photoresist-Ausrüstung für eine breite Palette von High-End-Anwendungen in der Halbleiter-, Mikroelektronik- und optoelektronischen Geräteherstellung. Es ist ein vielseitiges, kostengünstiges Werkzeug zur Bearbeitung von Halbleiterscheiben und bekannt für seine hohe Prozessgeschwindigkeit, präzise Steuerung und hervorragende Wiederholbarkeit. MICROTEC ACS200 wurde entwickelt, um schnelle Wafer-Lade- und Strippprozesse zu erleichtern. Es enthält eine Einzel-Wafer-Spin-Entwicklungslösung in den Waferhalter und verfügt über ein einfach zu bedienendes 5-Achsen-System mit hoher Genauigkeit und schnellem Ansprechen für Verarbeitungsschritte wie Resiststreifen, Photoresistbeschichtung/Entwicklung und Sputterätzen. Das Gerät enthält zwei 400W UV-Lampen, zusammen mit zweidimensionalen Muster Belichtung für eine verbesserte Auflösung. Darüber hinaus verfügt KARL RUß ACS-200 über eine eingebaute Verriegelung, die maximale Sicherheit für Personal und Ausrüstung während des Betriebs gewährleistet. Eine Luftzufuhr, Rezirkulation und Sicherheitssysteme werden für eine verbesserte Einheitenüberwachung hinzugefügt. Alles in allem ist ACS-200 für einen schnellen, zuverlässigen Betrieb ausgelegt, und seine integrierte Hardware bietet eine unübertroffene Wiederholbarkeit bei einer Vielzahl von Verarbeitungsaufgaben. KARL RUß ACS 200 enthält auch mehrere nützliche Softwareprogramme, um die Produktivität zu steigern und die schnelle Einrichtung und den Betrieb der Maschine zu erleichtern. Die Software ermöglicht es Anwendern, ihren Workflow zu programmieren und zu steuern, und bewertet Foliendicke, Schichtprofile und Durchmesser verschiedener Komponenten mit ausgezeichneter Präzision. Darüber hinaus ermöglicht die Software Anwendern Einblicke in Prozessvariationen und hilft Anwendern, Prozessparameter zu optimieren. Abschließend ist ACS 200 ein zuverlässiges Photolackwerkzeug für eine Vielzahl anspruchsvoller Prozesse. Es bietet eine schnelle und präzise Entwicklung und Gleichmäßigkeit für eine breite Palette von Wafer-Parameter, so dass die bestmögliche Nutzung der Ausrüstung. Es verfügt auch über umfassende Sicherheitsfunktionen und zahlreiche Softwareoptionen, um eine verbesserte Produktivität und Genauigkeit zu gewährleisten.
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