Gebraucht KARL SUSS / MICROTEC ACS 300 Gen2 #9356898 zu verkaufen

KARL RUß/MICROTEC ACS 300 Gen2 ist eine Photolackanlage für die UV- oder Elektronenstrahllithographie. Es ist ein voll funktionsfähiges System, das auf hohe Präzision, hohe Geschwindigkeit und wiederholbare Ergebnisse ausgelegt ist. Das Gerät ist mit einer Reihe von verschiedenen Technologien ausgestattet, so dass es in allen Phasen des Lithographieprozesses eine hervorragende Leistung liefern kann. Herzstück der Maschine ist ihre Präzision xy-stage. Dies ist ein ausgeklügeltes Werkzeug, das sicherstellt, dass das Substrat während des gesamten lithographischen Prozesses immer sicher an Ort und Stelle gehalten wird. Die Präzisions-xy-Stufe hat eine Winkelauflösung von 1 µm, wodurch sie in der Lage ist, ausgerichtete Muster mit Nanometergenauigkeit zu erzeugen. Die Stufe ist auch mit einem motorisierten Vakuum ausgestattet, das sicherstellt, dass das Substrat während der Lithographie fest gegen die Bühne gehalten wird, was eine überlegene Leistung für chemische Prozesse bietet. Das Modell ist auch mit einer Vielzahl von Abbildungsoptiken ausgestattet. Dies ermöglicht eine gleichmäßige Verteilung der Beleuchtung während des Belichtungsprozesses und sorgt für einen konsistenten und reproduzierbaren Strukturierungsprozess. Das Gerät hat auch einen verstellbaren Verschluss, der verwendet werden kann, um den Eintritt von Streulicht während der Belichtung zu beschränken, einen präzisen lithographischen Prozess zu gewährleisten und Kanteneffekte zu reduzieren. Das System ist in der Lage, mit einer Vielzahl von chemischen Resiststoffen zu arbeiten, einschließlich negativ wirkender und positiv wirkender. Durch Verwendung einer variablen Energiedosis kann der Resist genau und zuverlässig den gewünschten Werten ausgesetzt werden. Das Gerät verfügt zudem über eine eingebaute Trockenreinigungstechnologie, die die Reinigungszeit nach der Lithographie erheblich reduziert. MICROTEC ACS 300 Gen2 Photoresist Maschine ist entworfen, um hochpräzise Lithographie mit ausgezeichneter Wiederholbarkeit zur Verfügung zu stellen. Die präzise XY-Stufe, die einstellbare Optik und die variablen Dosierungsmerkmale machen es ideal für die Lithographie im Nanometermaßstab. Die eingebaute chemische Reinigungstechnologie sorgt dafür, dass die Reinigung nach der Lithographie minimiert wird, während die breite Verträglichkeit mit verschiedenen chemischen Resiststoffen es für eine Vielzahl von Anwendungen geeignet macht.