Gebraucht KARL SUSS / MICROTEC ACS 300 #9081962 zu verkaufen

KARL RUß/MICROTEC ACS 300 ist eine Photolackanlage, die für die präzise und konsistente Strukturierung von Substraten mittels Photolithographie entwickelt wurde. Dieses System ist insbesondere auf High-End-Wafer-Musterung spezialisiert. MICROTEC ACS 300 enthält einen OptiCAL Belichtungskopf, eine hochentwickelte Maschine, die Substrate bis 200 mm und Halbleiterscheiben bis 8 "belichten kann. Dieser Belichtungskopf verfügt über eine SÜSS Greentec Reduktionsoptik, um ein hochauflösendes Bild zu gewährleisten. Darüber hinaus ist es mit einer Abtastlinse und einem Laserautofokusgerät ausgestattet, um Genauigkeit und Präzision bei der Abbildung von Substraten zu gewährleisten. KARL RUß ACS 300 kommt auch mit einem AutoEdge Aligner, um das Lichtmuster richtig auf das Substrat auszurichten. Dieser Aligner trägt dazu bei, dass das Licht entsprechend auf den gewünschten Bereich fokussiert wird. Dies gelingt über ein Rasterelektronenmikroskop (SEM), das zur Detektion von minutiösen Fehlstellungen des Substrats dient. Das Werkzeug kann sowohl für die Kontakt- als auch für die Projektionsphotolithographie verwendet werden. Diese Art der Photolithographie nutzt eine Lichtquelle wie einen Laser, der auf ein lichtempfindliches Material aufgestrahlt wird. Dadurch werden Bereiche des Substrats freigelegt, um ein Muster zu erzeugen. Mit diesem Verfahren können Ätz-, Lithographie- und Mustersubstrate geätzt werden. Schließlich verfügt ACS 300 Photoresist Asset über ein einzigartiges automatisiertes Reinigungsmodell. Diese Ausrüstung hilft, menschliches Versagen zu reduzieren, die Objektivqualität zu erhalten und das System in optimalem Zustand zu halten. Dies geschieht durch atomare Reinigung und Beschichtung der Linse mit einer speziellen Flüssigkeit alle paar Stunden. Dies behält die Auflösung und Genauigkeit des Geräts bei und verhindert eine Verschlechterung durch Verschleiß. Abschließend ist KARL RUß/MICROTEC ACS 300 eine hochentwickelte Photolackmaschine, die eine präzise und konsistente Strukturierung von Substraten bietet. Seine Eigenschaften ermöglichen auch Kontakt und Projektion Photolithographie. Sein automatisiertes Reinigungswerkzeug hilft, die Genauigkeit und Auflösung des Materials zu erhalten.