Gebraucht KARL SUSS / MICROTEC ACS 300+ #9144010 zu verkaufen

ID: 9144010
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2005
(2) Coater / (2) Developer system, 12" Inline WL and RL: Other WL port number Operating system: Windows Automation online component: SECE Wafer type: Notch at 6 o'clock No SMIF Missing parts: Hard Disk Drive (HDD) (3) CYBOR PR Dispense pumps Developer module spin motor (3) Chemical leak sensors 2005 vintage.
KARL RUß/MICROTEC ACS 300 + Photoresist ist eine Präzisionsmaschine für die Photolithographie. Es ist mit einem modernsten Mikroschrittmotor ausgestattet und ermöglicht die genaue und wiederholbare Belichtung von Photolack. Das System nutzt entweder manuelle oder computergesteuerte Bedienung, so dass es ideal für Produktions- und Forschungsanwendungen ist. Die MICROTEC ACS 300 + Photolackeinheit verfügt über eine große, verstellbare Arbeitsfläche, die Substrate bis zu einer Größe von 200 x 400 mm handhaben kann. Die Maschine ist mit einem benutzerfreundlichen LCD-Display ausgestattet, das alle relevanten Informationen über den Prozess enthält, wie die Strahlgröße, die Zeit und die Resist-Einstellungen. Der Strahldurchmesser ist von 6 µm bis 650 µm einstellbar, und ein Zoomanschluss ermöglicht die Erstellung einer Vielzahl verschiedener Resistmuster. Die Strahlgröße kann schnell und präzise für die Präzisionsausrichtung angepasst werden. KARL RUß ACS 300 + nutzt Scott Hardmans patentierte Fleckglas-Reflektor-Technologie. Dies ermöglicht eine gleichmäßige Belichtung des Substrats mit minimaler Verzerrung. Das Werkzeug ist mit einem UV-A Reflektor und einem verstellbaren Shadow Hawk Kollimator ausgestattet. Dies macht das Asset während des Belichtungsprozesses äußerst genau und zuverlässig. Das Modell ist auch mit einer In-Process Control (IPC) -Beleuchtung ausgestattet, die eine Belichtungskorrektur nach der Bildung des Master-Musters ermöglicht. Eine breite Palette von Photomasken, Phototoolen und Resistmaterialien kann mit ACS 300 + -Geräten verwendet werden. Das System wurde entwickelt, um mit standardmäßigen niederviskosen Resiststoffen wie AP-Typ HSQ-Typ (Hexamethyldisilazan), AR-Typ (Allyloxyresorcin) und CP-Typ (Cyanacrylate) Photoresists zu arbeiten. Es ist auch mit einer Vielzahl von hochviskosen Photoresists wie PMMA-Typ (Polymethylmethacrylat), AZ-Typ (aza-Bisphenol) und MX-Typ (Mercaptoxylen) Photoresists kompatibel. Insgesamt ist die KARL RUß/MICROTEC ACS 300 + Photolackeinheit eine vielseitige Maschine mit einem breiten Anwendungsspektrum. Es kann leicht mit einer Vielzahl von Photomasken und Resistmaterialien umgehen, so dass es sowohl für die Produktion als auch für die Forschung geeignet ist. Seine ausgezeichnete Vielseitigkeit, benutzerfreundliche Bedienung und hohe Präzision machen es zu einer ausgezeichneten Wahl für jedes Photolithographie-Projekt.
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