Gebraucht KARL SUSS / MICROTEC Delta 20T2/150VPO #9296246 zu verkaufen

KARL RUß/MICROTEC Delta 20T2/150VPO ist eine Fotoresistausrüstung zur Bildgebung und Strukturierung fortschrittlicher Halbleitermaterialien. MICROTEC Delta 20T2/150VPO ist ein umfassendes Konzept-Photoresist-System, das eine zuverlässige und kostengünstige Lösung für die Herstellung von Halbleiterbauelementen liefert. Das Gerät besteht aus vier Schlüsselkomponenten: einem Photolithographiewerkzeug (dem Delta 20T), einem Resistbeschichtungsgerät, einem Entwickler und einer Nachbelichtungsbackeinheit (PEB). Das Delta 20T Photolithographie-Tool ist eine Stufen- und Wiederholungsmaschine, die für die direkt geschriebene lithographische Submikron-Bildgebung entwickelt wurde. Es verwendet eine UV-Lichtquelle und eine hochpräzise Optik, um Bilder auf ein Substrat zu projizieren. Darüber hinaus kann die Delta- 20T auch für Anwendungen wie Wafer-Scribing, Messtechnik und andere Spezialanwendungen konfiguriert werden. Das Werkzeug hat einen 300-mm-Tisch und einen 150-mm-vertikalen Verfahrbereich. Der begleitende Resist Coater ist ein automatisiertes Beschichtungswerkzeug zum präzisen Auftragen eines Resistmaterials auf ein Substrat. Es verwendet ein lineares Bewegungselement, um den Resist gleichmäßig und genau auf das Material aufzubringen. Der Entwickler ist ein Spin-basierter Mechanismus, der verwendet wird, um den Resist nach dem Belichtungsprozess zu entfernen. Es verwendet Zentrifugalkraft, um den Resist zu rühren, was es erleichtert, dass die chemische Entwicklerlösung das exponierte Resistmaterial auflöst. Schließlich ist der PEB-Ofen eine Spezialeinheit, mit der der Wafer nach dem Belichten und Entwickeln thermisch verarbeitet wird. Es verwendet ein Heizelement, um die Temperatur des Wafers auf den optimalen Bereich für die Resistentwicklung zu erhöhen. Neben seinen Komponenten bietet KARL RUß DELTA 20T2/ 150VPO dem Anwender eine intuitive grafische Benutzeroberfläche (GUI). Diese Schnittstelle soll Benutzern helfen, Programmieraufgaben durchzuführen, um das Modell für verschiedene Prozesse einzurichten und Berichte zur Analyse der Geräteleistung zu erstellen. Das Photoresist-System DELTA 20T2/ 150VPO bietet eine umfassende Lösung für die Bildgebung und Strukturierung hochpräziser Wafer. Mit seinem effizienten Workflow, der überlegenen Bildqualität und der intuitiven GUI ist es eine zuverlässige Wahl für die Herstellung fortschrittlicher Halbleiterbauelemente.