Gebraucht KARL SUSS / MICROTEC Delta 80RC #293750774 zu verkaufen

KARL RUß/MICROTEC Delta 80RC ist eine fortschrittliche, automatisierte Photoresist-Beschichtungsanlage mit Fähigkeiten für die optische und Elektronenstrahl-Lithographie. Es ist eine hochpräzise, zuverlässige Lithographie-Plattform, die es Forschern ermöglicht, komplizierte Mikroskalenmerkmale zu erzeugen. Im Kern verfügt MICROTEC Delta 80RC über eine einzigartig gestaltete, beleuchtende Lichtquelle mit einer numerischen Apertur von 0,8 und einem präzisen Z-Achsen-Probenplatzierungssystem. KARL RUß Delta 80RC verwendet eine Reihe von Belichtungsoptiken wie ein Näherungsfilter, eine Doppelschlitzblende und eine einstellbare LD-Schlitzplatte, um hochauflösende Musterergebnisse zu erzielen. Seine Substratheizfähigkeit und fortschrittliche optische Komponenten helfen, Verzerrungen zu reduzieren und die Bildqualität zu optimieren. Darüber hinaus umfasst die Einheit einen motorisierten Rollladen und eine schalungslose Vorrichtung, um eine schnelle Beschichtung und Belichtung zu ermöglichen. Delta 80RC verwendet ein digital moduliertes Vakuumbeschichtungsverfahren, um eine konstante Photoresistdicke zu gewährleisten. Es erleichtert die manuelle oder programmierbare Substratplatzierung mit einer automatisierten Substratspannmaschine und präziser Höhenverstellung. Das Tool wurde mit einer Reihe von Funktionen entwickelt, die es benutzerfreundlich machen, einschließlich einer einfachen, intuitiven Oberfläche mit grafischer Anzeige zur Einstellung von Kontrast, Helligkeit und Schichtdicke. KARL RUß/MICROTEC Delta 80RC bietet darüber hinaus eine Vielzahl von Sicherheitsmerkmalen wie den integrierten ESD-Schutz für die PC-Platinen und einen Leistungsunterbrechungsschalter, um die Sicherheit beim Einsatz zu gewährleisten. Schließlich ist die Anlage so konzipiert, dass sie wartungsarm ist, mit wenigen vom Benutzer gewarteten Komponenten und ohne periodische Reinigung oder Anpassung optischer Komponenten. Insgesamt ist MICROTEC Delta 80RC ein unschätzbares Gut für Forscher, die hochauflösende Muster auf Mikroskalenobjekten erzeugen möchten. Mit seinen fortschrittlichen Eigenschaften ist es ein zuverlässiges und benutzerfreundliches Photolack-Beschichtungsmodell, das sich ideal für Lithographieanwendungen eignet.