Gebraucht KARL SUSS / MICROTEC Gamma 4M #293601750 zu verkaufen

KARL RUß/MICROTEC Gamma 4M ist eine Fotoresistausrüstung, die für die präzise und präzise Entwicklung von Photoresists entwickelt wurde. Es ist ein kompaktes und robustes Photolithographiesystem, das den anspruchsvollen Anforderungen moderner Nanofabrikation und optoelektronischer Anwendungen gerecht wird. MICROTEC Gamma 4M besteht aus einem Excimerlaser, einem Templategenerator, einem Mustergenerator, einer orthogonalen Stufe, einem Masken-Aligner und einer Dosiereinheit. Der Excimerlaser basiert auf der neuesten Laserplattform von MICROTEC und verfügt über eine hochmoderne Wellenlängenkontrollmaschine, die höchste Wiederholbarkeit und Genauigkeit während der Belichtung bietet. Das Strahlprofil des Lasers ist so ausgelegt, dass gleichmäßige Resiststrukturen in kürzester Zeit gleichmäßig belichtet werden. Der Vorlagengenerator verwendet ein hochauflösendes LCD-Display, um erweiterte Maskenmuster wie SU-8, AZ-5214 und erweiterte Integrationsstrukturen zu aktivieren. Das LCD-Display ist für eine niedrige, aber sehr präzise Fokustiefe optimiert, die hochmoderne Auflösungsstufen ermöglicht. Der Mustergenerator verwendet ein Laser-Schreibwerkzeug, das speziell für die Abscheidung von hochpräzisen und Submikron-Strukturen für die Photolithographie ausgelegt ist. Die orthogonale Stufe ermöglicht eine präzise und genaue Ausrichtung des Mask Aligners und des Mustergenerators. Der Mask Aligner bietet die höchstmögliche Auflösung während der Entwicklung und verfügt über ein hochpräzises, höhenverstellbares Design, das eine gleichmäßige Belichtung über ganze Photoresistbereiche hinweg ermöglicht. Schließlich stellt die Dosieranlage sicher, dass alle Parameter von KARL RUß Gamma 4M den geforderten Standards und Spezifikationen entsprechen. Das Gamma 4M-Modell bietet eines der fortschrittlichsten Photolackverfahren, das heute auf dem Markt erhältlich ist. Es ist eine ideale Wahl für professionelle Nanofabrikations- und optoelektronische Labore sowie Forschungs- und Entwicklungseinrichtungen. KARL RUß/MICROTEC Gamma 4M ist eines der zuverlässigsten und präzisesten Photoresistsysteme, das es heute gibt, indem es Funktionen wie ein hochauflösendes Laserschreibgerät, einen fortschrittlichen LCD-Bildschirm und einen höhenverstellbaren Masken-Aligner anbietet.