Gebraucht KARL SUSS / MICROTEC Gamma #293617131 zu verkaufen

KARL RUß/MICROTEC Gamma ist ein Photoresist-Gerät, das die Erzeugung von hochauflösenden und präzisen Mustern verschiedener Arten von Mikrostrukturen ermöglicht. Es kann für eine Vielzahl von Anwendungen verwendet werden, einschließlich der Herstellung von elektronischen Schaltungen, MEMS und optoelektronischen Komponenten. Das System besteht aus einem Maskenausrichter, einem kleinen Prozessor und einem plasmaaktivierten Nassätzmodul. Der Masken-Aligner hält die Fotomaske und führt die photolithographischen Musterprozesse auf einer Stepper-Plattform durch und ermöglicht eine präzise Ausrichtung der Maske über dem Substrat. Der kleine Prozessor empfängt die Musterdaten aus der Fotomaske und verarbeitet sie zur Erzeugung des Photolackmusters auf dem Substrat. Das plasmaaktivierte Naßätzmodul dient zum Ätzen und Entfernen der belichteten Bereiche des Substrats. MICROTEC Gamma-Einheit bietet dem Anwender die Kontrolle über die Prozessparameter wie Belichtungsdosis, Beleuchtungsmuster und Belichtungszeit. Diese ermöglichen die Optimierung von Prozessvariablen, um hochauflösende und genaue Musterlinien und -merkmale zu erzeugen. Die Maschine ist mit hochpräzisen Objektiven, einer hochintuitiven Benutzeroberfläche und Software ausgestattet, die es dem Benutzer ermöglicht, Muster zu entwerfen und Parameter anzupassen. KARL RUß Gamma bietet eine breite Palette von Funktionen, die es zu einer geeigneten Wahl für Anwendungen wie die Herstellung von Leiterplatten, MEMS und optoelektronischen Komponenten machen. Es hilft, Zeit und Kosten im Zusammenhang mit dem Herstellungsprozess zu reduzieren, indem es einen hochgenauen Mustererzeugungs- und Ausrichtungsprozess bereitstellt. Gamma Asset ist zuverlässig und einfach zu bedienen, so dass der Benutzer schnell und einfach hochwertige Mikromuster erstellen kann. Es kann unter verschiedenen Temperatur- und Feuchtigkeitsbedingungen verwendet werden und ist mit einer breiten Palette von Werkzeugen erhältlich, um komplizierte Muster rechtzeitig und kostengünstig zu entwickeln. Das Modell ist ideal für die Erstellung komplexer Mikromuster auf einer Vielzahl von Substraten, so dass es eine ausgezeichnete Wahl für Fertigungsanwendungen ist.