Gebraucht KARL SUSS / MICROTEC Gamma #293745275 zu verkaufen

KARL RUß/MICROTEC Gamma ist ein Photoresist-Gerät, das zur Entwicklung feiner Muster auf verschiedenen Oberflächen verwendet wird. Das Photolacksystem besteht aus drei Hauptkomponenten: der Waferbühne, dem Maskenhalter und der Beleuchtungseinheit. Die Waferstufe hält die zu musternde Oberfläche. Es besteht aus einem hochpräzisen Schrittmotor, mit dem die Oberfläche in X-, Y- und Z-Richtung exakt bewegt wird. Der Maskenhalter wird auf die Waferbühne montiert und hält die Fotomaske. Mit der Fotomaske wird das Muster aus der Maske auf die Oberfläche übertragen. Die Beleuchtungsmaschine besteht aus einer leistungsstarken UV-Quelle, typischerweise einer Quecksilberbogenlampe, mit der Licht durch die Maske geleuchtet wird, um den Photolack freizulegen. MICROTEC Gamma ist ein hochgenaues Werkzeug und in der Lage, durchgehend hochauflösende feine Muster zu produzieren. Es arbeitet in einem Stehwafer-Modus, der einen konstanten Flächenabstand und Belichtungsabstand zwischen der Belichtungsquelle und der belichteten Oberfläche einhält. Die Waferstufe hat eine Positionsauflösung von einem Mikron und eine Wiederholbarkeit von +/- 0,005 Mikrometern, die eine höhere Genauigkeit der Musterpositionierung ermöglicht. Darüber hinaus ist der Maskenhalter in der Lage, Winkel von 0 - 20 Grad in Schritten von 0,1 Grad zu beseitigen jede Verzerrung in Mustern aufgrund von Winkelunterschieden. KARL RUß Gamma kann in Verbindung mit einer Vielzahl von Photoresists einschließlich positiver und negativer Photoresists sowie dicken Resists eingesetzt werden. Dieses Photoresist-Asset nutzt einen zweistufigen Belichtungsansatz, was bedeutet, dass das exponierte Muster feineren Details genau und im Bereich ohne Pin-Holing oder Schattierung extrem gleichmäßig ist. Darüber hinaus kann dieses Gerät aufgrund seines präzisen X-, Y-, Z-Positionierungsmodells zur Strukturierung mehrerer Schichten in verschiedenen Technologien und verschiedenen Merkmalsgrößen verwendet werden, wie z. B. Resistlinien so dünn wie 50nm. Gamma ist das ideale Photolacksystem für die Entwicklung von Submikrongrößen, Einzel- und Mehrschichtmustern auf verschiedenen Substraten. Sein robustes Design, seine hohe Genauigkeit und Wiederholbarkeit machen es ideal für Forschung, Entwicklung und Produktion komplizierter Muster im Bereich der Nanoelektronik.