Gebraucht KARL SUSS / MICROTEC Gamma #9284546 zu verkaufen

KARL RUß/MICROTEC Gamma ist ein zweistrahliges Photoresist-Gerät für hochpräzise mikrostrukturierende Anwendungen. Es ist in der Lage, Substrate bis 200 mm Durchmesser lithographisch zu strukturieren, mit Auflösung bis auf wenige Nanometer. MICROTEC Gamma nutzt hochauflösende Schrittoptik, um Photomasken mit sehr hoher Treue und sehr geringer Verzerrung zu produzieren. KARL RUß Gamma besteht aus zwei Elektronenstrahlsystemen, einem Photomaskengenerator und einem Belichtungssystem. Der Photomasken-Generator verwendet einen Elektronenstrahl, um Merkmale auf einer Photomaske zu zeichnen. Die Auflösung der gezeichneten Merkmale wird durch die Strahlenergie, die Strahlgröße und die Stromdichte des Strahls bestimmt. Diese Photomaske wird dann verwendet, um eine Chrom-auf-Glas-Maske zu erzeugen, die durch einen Nassätzprozess gemustert wird. Die Belichtungseinheit arbeitet, indem sie einen Strahl von fokussiertem ultraviolettem Licht durch die Photomaske schickt, um die Oberfläche des Substrats zu belichten. Dieses Licht wird durch Fokussierung oder Defokussierung des Strahls sehr genau moduliert, wodurch eine sehr detaillierte Merkmalsdefinition möglich ist. Die Intensität des Lichts wird durch die Leistung des Strahls bestimmt, die geschwindigkeitsmäßig einstellbar ist. Einmal belichtet, wird das Substrat in einer herkömmlichen resistbasierten Entwicklungslösung entwickelt. Alle Merkmale und Muster auf der Photomaske werden als Ergebnis dieses Entwicklungsprozesses auf dem Substrat repliziert. Gamma hat mehrere Vorteile, einschließlich Wiederholbarkeit, Auflösung und einzigartige Funktionen. Seine Elektronenstrahltechnologie erhöht die Genauigkeit und Wiederholbarkeit, indem die Platzierung und Form jedes Merkmals auf dem Substrat gesteuert wird. Die hochauflösende Optik der Maschine ermöglicht eine Auflösung der Funktionen unter 10 nm und ermöglicht so erweiterte Anwendungen. Weitere Merkmale sind fortschrittliche Eck- und Neigungstechnologien, die die Herstellung von perfekt glatten Photomasken-Ecken und optimierten Neigungen ermöglichen, was die Ausbeute erheblich erhöht und die Treue der Funktionen verbessert. Insgesamt ist das KARL RUß/MICROTEC Gamma Photoresist Tool ein leistungsfähiges und präzises Werkzeug für Lithographieverfahren. Die Kombination aus fortschrittlicher Elektronenstrahloptimierung, hochauflösender Optik und robuster Entwicklung ermöglicht erstklassige Anwendungen zur Mikrostrukturierung und Strukturierung.