Gebraucht KARL SUSS / MICROTEC Gamma #9384738 zu verkaufen

KARL RUß/MICROTEC Gamma Photoresist Equipment ist eine hochpräzise Lösung zur Entwicklung und Ätzung auf fortschrittlichen Halbleitersubstraten. Es ist ein Stepper-Level-Lithographiesystem, das in der Lage ist, Photoresist jeder Art zuverlässig und konsequent zu verarbeiten, einschließlich der neuesten fortschrittlichen chemisch verstärkten Photoresists (CAPR). Dieses Gerät verwendet eine gekreuzte 6-Achsen-Mikroskopstufe mit hochauflösenden Encodern, die präzise und zuverlässige Ausrichtungs-, Bühnenbewegungs-, Mehrschichtausrichtungs- und Nanoprozessorfunktionen bieten. Diese Stepper-Level-Maschine kann Funktionen von 1-500nm abbilden und unterstützt mehrere fortschrittliche Muster- und Ätztechniken. MICROTEC Gamma ermöglicht eine hochpräzise Photolithographie auf einer Vielzahl von Halbleitersubstraten, einschließlich zerbrechlicher III-V-Materialien. Das Werkzeug ist mit einer 4-stufigen „Produzieren und Freigeben“ -Funktion für die schnelle und einfache Entwicklung von Photolackmustern ausgestattet. Seine fortgeschrittene XY-Stufe und Exposure Asset sind in der Lage, dichte Muster mit hoher Treue zu programmieren. Das Modell ist auch mit einer breiten Palette von anderen Funktionen ausgestattet, einschließlich der Fähigkeit, hochauflösendes Scannen in kurzer Zeit zu erreichen, Kontrolle von nachlassenden Funktionen und zufällige Musterung für präzise Wärmebildanwendungen. KARL RUß Gamma beinhaltet zudem eine Vielzahl von Funktionen zur präzisen Ausrichtung und Prozesssteuerung, darunter eine kontinuierliche Echtzeit-Ausrichtung und feine Öffnungen zur Feinbelichtungssteuerung. Die Steuerung des Geräts ist in der Lage, bis zu 16 Mehrschichtstapel mit zuverlässigen Ergebnissen zu treiben. Es enthält auch eine Vielzahl von Vergrößerungsoptionen, von 2x bis 300x, sowie ein leistungsstarkes spezielles optisches System für die genaue Untersuchung von klaren und undurchsichtigen Materialien. Darüber hinaus wird eine hochpräzise Waferausrichtung durch automatisierte Korrelationstechniken und Fliesenfunktionalität ermöglicht. Zusätzlich zu den oben genannten erweiterten Funktionen bietet die Gamma Photoresist-Einheit hervorragende Sicherheitsfunktionen. Es verwendet 8-Kanal-Muster-Verifizierungssysteme zum Schutz vor kurzen Hosen und Kratzern sowie eine Full-Interface-Ätzmaschine zur präzisen Ätzsteuerung. Die fortschrittliche Luftfilteranlage des Werkzeugs sorgt für eine saubere Arbeitsumgebung, und der Temperaturregler reproduziert sowohl Prozessbedingungen als auch Umgebung. Insgesamt ist das KARL RUß/MICROTEC Gamma Photoresist Modell eine leistungsstarke Lösung für die Halbleiterverarbeitung. Mit seinen hochpräzisen Eigenschaften und fortschrittlichen Sicherheitsmechanismen kann es zuverlässig und präzise Photolackmuster mit ausgezeichneter Wiederholbarkeit und Reproduzierbarkeit entwickeln. Natürlich ist diese Ausrüstung kostengünstig - aber für diejenigen mit ernsthaftem Lithographiebedarf kann es die Investition wert sein.