Gebraucht KARL SUSS / MICROTEC RC 16 (RC5) #9383649 zu verkaufen

MICROTEC RC16 (RC5) ist eine Photoresist-Ausrüstung, die zur Strukturierung physikalischer Mikrostrukturen in dünne Filme verwendet wird. Dieses Photoresist-System verfügt über einen In-situ-Musterausrichter, um definierte Mikrostrukturmuster auf Schichten zu erzeugen, die von mehreren Mikrometern bis zu zehn Nanometern reichen. Die Photolackeinheit ist so konzipiert, dass sie eine hohe Genauigkeit und Wiederholbarkeit bietet und reproduzierbare Ergebnisse ermöglicht. Die Genauigkeit der Musterausrichtung beträgt 0,3 Mikrometer über ein 75mm Chipfeld und seine bildgebende Auflösung beträgt 1 Mikrometer. Die Wiederholbarkeit der Leistung beträgt 0,3 Mikrometer, und die Maschine ist in der Lage, Proben mit Merkmalen im Bereich von 0,1 bis 8 Mikrometer zu messen. Die Schichtdicke des Werkzeugs liegt zwischen 20-180nm und wird durch einen Präzisionsverschluss gesteuert, der in das Objekt eingebaut ist. KARL RUß RC16 (RC5) enthält auch Funktionen für die Stapelverarbeitung, um die Anforderungen von Anwendungen mit hohem Durchsatz zu erfüllen. Das Gerät umfasst ein Top-Down-Vision-Modell, das bis zu 25 Bilder von Mikrostrukturen gleichzeitig aufnehmen kann, und eine integrierte Datenbank zur Speicherung von erfassten Bildern. Darüber hinaus sind automatisierte Spot-Mapping und globale Exposition für weitere Effizienz und Präzision enthalten. KARL RUß/MICROTEC RC16 (RC5) ermöglicht sowohl positive als auch negative Tonentwicklung mit einem neutralen Trennmittel. Die Ausrüstung bietet vier Entwicklungsmethoden; Nassentwicklung, Lösungsmittelentwicklung, Trockenentwicklung und Nachbacken. Das Photoresist-System ist stabil in Temperaturen von 4-40 Grad Celsius und es wurde entwickelt, um Kontaminationen zu minimieren und Lärm zu minimieren, um konsistente, wiederholbare Ergebnisse zu gewährleisten. Zusammenfassend ist MICROTEC RC16 (RC5) eine Photoresist-Einheit, die verwendet wird, um physikalische Mikrostrukturmuster mit einer Genauigkeit und Präzision zu mustern. Seine Eigenschaften ermöglichen die Anpassung der Photolackschicht und ihre Wiederholbarkeit, und die Maschine bietet Batch-Verarbeitungsfunktionen für Anwendungen mit hohem Durchsatz. Darüber hinaus bietet es eine positive und negative Tonentwicklung mit vier verfügbaren Entwicklungsmethoden sowie eine nicht kontaminierende Temperaturstabilität.