Gebraucht KARL SUSS / MICROTEC RC 16 #9383648 zu verkaufen

KARL RUß/MICROTEC RC 16 ist ein fortschrittliches Photolackgerät, das vor allem für seine Verwendung in einer Vielzahl von Halbleiter- und MEMS-Herstellungsprozessen bekannt ist. Das System verwendet einen auf Polysilizium basierenden „Resist“, der entweder Licht oder Plasma ausgesetzt ist, wodurch innerhalb des Resists chemische Reaktionen auftreten, die Muster in der Resistschicht bilden. MICROTEC RC 16 Einheit arbeitet, indem die Resistschicht Licht oder Plasma durch eine spezialisierte Projektionsmaschine ausgesetzt wird. Das Licht öffnet die molekulare Struktur des Resistes, so dass chemische Reaktionen in der Resistschicht auftreten können. Durch die Steuerung der Lichtintensität oder Dauer der Belichtung kann der Benutzer das im Resist erzeugte Muster bestimmen. Während der Aufbereitungsphase wird der Resist auf eine niedrigere Temperatur abgekühlt und dann auf das Substratmaterial aufgebracht. Nach der Herstellung des Substrats wird der Resist mit Licht oder Plasma beaufschlagt, um einen chemischen Polymerisationsprozess zu initiieren. Die Geschwindigkeit und das Ausmaß der Polymerisation hängt von der Art der Belichtung sowie von der Dauer und Intensität der Belichtung ab. Der Belichtungsprozeß führt zur Bildung eines Abbildungsmusters im Resistmaterial, das als Grundlage für jede weitere Mikrofabrikation dient. Während der Entwicklungsphase wird das Bild durch Entfernen des unbelichteten Materials durch Waschen oder Ätzen entwickelt. Sobald dieser Prozess abgeschlossen ist, ist das Substrat bereit für die weitere Mikrofertigung. KARL RUß RC 16 ist in der Lage, Mikron- und Sub-Mikron-Linien und Räume mit optischer Qualität und hochauflösenden Bildern zu produzieren. Das Werkzeug ist auch in der Lage, hohen Durchsatz von Substraten und hohe Genauigkeit der Belichtungen zu erreichen. Das Asset ist vielseitig genug, um sowohl für Submikron-Lithographie als auch für Deep-Etch-Prozesse eingesetzt zu werden. RC 16 ist dank seiner hochmodernen Funktionen das ideale Fotolackmodell für die Fertigung fortschrittlicher Halbleiterbauelemente.