Gebraucht KARL SUSS / MICROTEC RC 8 MS2 #9262863 zu verkaufen

KARL RUß/MICROTEC RC 8 MS2 ist eine Photoresist-Ausrüstung für den Einsatz in fortschrittlichen lithographischen Prozessen. Es ist in der Lage, Photolackschichten mit einer Dicke von bis zu 20 μ m bei einer schnellen Entwicklungszeit von nur 60 Sekunden zu entwickeln. Das System ist mit einem beheizten Vakuumfutter und automatisierten Belichtungsstufen ausgestattet, die eine präzise Kontrolle der Resistdicke und der kritischen Maßgenauigkeit ermöglichen. Das Gerät ist auf Zuverlässigkeit ausgelegt, um Photopattern höchster Qualität mit einer Auflösung zu erreichen, die weit über die von Standardkontaktdruckern hinausgeht. Es ist sehr kompatibel mit einer breiten Palette von Photoresists; die Fokuseinstellmaschine und die Autopositionierstufen am MICROTEC RC 8 MS2 sorgen für eine genaue Wiederholgenauigkeit. Das Werkzeug enthält einen Top-Ladespinner zum Spinnen-Beschichten und einen motorisierten Lift, der eine konstante Resistdicke beibehält. KARL RUß RC 8 MS2 verfügt zudem über eine erweiterte Steuerungssoftware und eine optimierte Benutzeroberfläche. All diese Funktionen sowie die Erstellung dedizierter Berichte, die Integration mit SOPs und anderer fortschrittlicher Lithographiesoftware machen dieses Asset zu einer leistungsstarken und zuverlässigen Lösung für diejenigen, die höchste Leistung und Qualität benötigen. RC 8 MS2 verwendet elektromagnetische Interferenz (EMI) -Technologie, um den Abscheidungsprozess genau zu steuern. Diese Technologie steuert effektiv den Elektronenstrom bei hoher Frequenz und verhindert dadurch, dass die Resistschicht während des Entwicklungsprozesses beschädigt oder zerstört wird. Das Modell ist auch mit fortschrittlicher Software ausgestattet, die eine prädiktive Modellierung von Resistprofilen ermöglicht und so Genauigkeit und Wiederholbarkeit von Photopattern gewährleistet. KARL RUß/MICROTEC RC 8 MS2 ist sowohl mit flüssigen Photoresists als auch mit Dickschicht-Photoresists kompatibel und eignet sich für die fertigungstechnische Mikrostrukturierung der Laserablation und der optischen Lithographie. Es ist perfekt für Anwendungen in der Entwicklung von mikroelektronischen Geräten, MEMs, Mikrolinsen, Nanodrähten und mehr. MICROTEC RC 8 MS2 enthält ein großes Vakuumfutter, das in der Lage ist, Photoresists bis zu 300 Millimeter Größe aufzunehmen und bietet einen großen Temperaturbereich von 25C ° bis 250C °. Zur Ausstattung gehört auch ein Bienenstock-Chemiemodul mit bis zu vier Stationen. Schließlich verfügt das System über eine Touchscreen-Schnittstelle und automatisierte Umweltkontrolle, einschließlich Reinigungszykluseinstellungen. Zusammenfassend ist KARL RUß RC 8 MS2 eine zuverlässige, leistungsstarke Photolackeinheit, die hochgenaue und komplexe Photopattern mit höchster Auflösung herstellen kann. Es bietet eine breite Palette von Funktionen, einschließlich fortschrittliche Steuerungssoftware, fortschrittliche EM-Strahlungstechnologie, automatisierte Belichtungsstufen, vorausschauende Modellierungsfunktionen und automatisierte Umweltkontrolle, so dass es die perfekte Lösung für diejenigen, die die höchste Qualität Photopatterns und Resistprofile verlangen.