Gebraucht KARL SUSS / MICROTEC RC 8 MS3 #26117 zu verkaufen

KARL RUß/MICROTEC RC 8 MS3 ist eine Photolackausrüstung mit modularem Aufbau für höchste Genauigkeit und Wiederholgenauigkeit. Das System verfügt über eine geschlossene Bühnenbewegung, die eine präzise Positionierung und Handhabung verschiedener Substrate bis 200 mm ermöglicht. Die motorisierte Betätigungseinheit ermöglicht eine Langzeitstabilität. Darüber hinaus ermöglicht die verstellbare Z-Achse Variationen der Substrathöhe für Stoß- und Lithographieverfahren. Die Maschine verfügt über eine leistungsstarke, luftgekühlte Xe-Bogenlampe mit kurzer Aufwärmzeit und vibrationsarmen Betrieb. Seine speziell konstruierte Kondensatorlinse hat einen breiten FWHM-Winkel, was zu einer gleichmäßigen Ausleuchtung des Substrats führt. Das hochauflösende Mikroskop mit einem Vergrößerungsbereich von 7x bis 100x und telezentrischer Optik ermöglicht eine genaue Ausrichtung der Masken. Erweiterte Prozesssteuerung, mit einem Wafer-zu-Quantität-Bildschirm, ist verfügbar und anwendergesteuert, bietet Echtzeit-Überwachung der Photomaske und Wafer-Ausrichtung. Der fortschrittliche Messtechnik-Bereich mit seinem hochsensitiven optischen Univision-Kopf bietet eine fortschrittliche Prozessüberwachung, während die softwareprogrammierbare Scangeschwindigkeit das Übersprechen zwischen dem Ausgang der UV-Lampe und der Belichtung des Fotolacks kompensiert. Die integrierte Widerstandsmischstation und Elektronik des Asset verfügt über eine vollautomatische Widerstandsmischung, Dosierung und Spin-Coat-Leistungskontrolle. MICROTEC RC 8 MS3 verfügt auch über eine automatische Entladungseinheit für die automatische und sichere Entfernung von Fotoresist aus der Bahn und verfügt über automatische Ausrichtungsfunktionen für die einfache Handhabung verschiedener Substrate. Darüber hinaus verfügt das Modell über Lasersicherheitsmerkmale und Temperaturüberwachungsfunktionen, um sichere und zuverlässige Betriebsbedingungen zu gewährleisten. KARL RUß RC 8 MS 3 erfüllt auch internationale Standards und Umweltanforderungen und ist damit für die meisten Photoresist-Anwendungen gut geeignet.