Gebraucht KARL SUSS / MICROTEC RC 8 #9207171 zu verkaufen

KARL RUß/MICROTEC RC 8 ist eine Photolackausrüstung, die speziell für den Einsatz bei der Herstellung hochauflösender Mikrostrukturen und integrierter Schaltungen entwickelt wurde. Dieses System verwendet eine einzige Resistschicht, die ultraviolettem (UV) Licht ausgesetzt ist, um ein Elektronenstrahl-Resistbild zu erzeugen. Dieses Gerät ist in der Lage, hochauflösende Muster mit sub- μ m Merkmalsgröße auf Wafern bis 8 "Durchmesser mit einer Auflösung von 5 μ m zu erzeugen. MICROTEC RC 8 Einheit ist für berührungslose und kontaktlose Belichtungsmodi ausgelegt. Im berührungslosen Modus wird die Probe während der Resistbelichtung mit einem Vakuumfutter gehalten. Mit einem Elektronenstrahl werden dann die entsprechenden Geometrien nach einem belasteten Muster auf die Resistoberfläche programmiert. Im Kontaktmodus wird zur Belichtung der Waferoberfläche eine schablonenartige Resistmaske verwendet. In Bezug auf die Genauigkeit hat diese Maschine eine Eigenschaftsgrößenauflösung von 5 μ m und kann Muster bis zu 10 μ m Belichtungslinienlängen freilegen. Das Werkzeug enthält auch eine Kochplatte mit einer maximalen Temperatur von 250 ° C. Dies ermöglicht ein optimiertes Verfahren zur Musterübertragung von der Resistschicht auf das darunterliegende Material. Zusätzlich kann die Anlage auch in Luft, Stickstoff oder Vakuum betrieben werden. Dadurch können Spänehersteller die Entstehung von Verunreinigungen während des Herstellungsprozesses reduzieren. KARL RUß RC 8 Modell ist mit mehreren Sicherheitsmerkmalen ausgestattet, die es benutzerfreundlich und sicher zu bedienen machen. Es weist ein Schutzgehäuse auf, das den Benutzer vor UV-Licht abschirmt, eine Verriegelung zur Verhinderung einer versehentlichen Belichtung mit UV-Licht sowie eine Alpha-Quelle, die bei der Bestimmung des Sperrbereichs des Musters bei der Belichtung des Bildes hilft. Darüber hinaus kann die Ausrüstung mit verschiedenen Resistmaterialien verwendet werden und ist leicht zwischen Losen von Wafern zu reinigen. Insgesamt ist das RC 8-System in der Lage, hochauflösende Muster auf Wafern mit einer Auflösung von bis zu 5 µm zu erzeugen. Es ist auch mit mehreren Sicherheitsfunktionen ausgestattet und ist einfach zu bedienen. Mit seinem breiten Leistungsspektrum eignet sich das Gerät ideal für die Herstellung hochauflösender Mikrostrukturen und integrierter Schaltungen.