Gebraucht KARL SUSS / MICROTEC RC 8 #9365908 zu verkaufen

KARL RUß/MICROTEC RC 8 ist eine Photoresist-Anlage, die kritische Ätz- und Lithographieverfahren auf einer Vielzahl von Film- und Photomasken-Substraten durchführt. Dieses System verwendet strenge fotografische Prozesse, um Muster auf Dünnschichtschichten zu konturieren, die auf eine Vielzahl von Substraten für integrierte Schaltungsanwendungen aufgebracht werden können. Sie kann insbesondere Substrate bis 400 mm Durchmesser handhaben und für die Verarbeitung einer Vielzahl von Spezialresistmaterialien wie AZ, GX1, GX2 und PFE ausgerüstet werden. Das Gerät verwendet eine hochgenaue Ausrichtungsmaschine, um eine enge Registrierung von Mustern über Substrate zu gewährleisten; einschließlich eines 16-Punkt-Autofokus-Werkzeugs, das verwendet werden kann, um das Positionieren und Formen von Resistmustern auf komplizierten Substratoberflächen zu unterstützen. Darüber hinaus wurde das Asset entwickelt, um zwei Substratbewegungsebenen zu nutzen, die bei der Präzision für die Registrierung im Feld helfen. Das Modell ermöglicht eine direkte Schreiblaserlithographie, die besonders nützlich ist, um schnell komplizierte Muster mit hoher Präzision zu erzeugen. Darüber hinaus ist es für aggressive Asche- und Ätzprozesse wie Dry Etch, Nassätzen und tiefenreaktives Ionenätzen optimiert. Neben der direkten Schreiblaserlithographie ist das Gerät in der Lage, mit einer Vielzahl von Photomasken zu arbeiten, die verwendet werden können, um Muster direkt auf Substratoberflächen zu belichten. Dadurch können detailliertere und kompliziertere Muster mit größerer Präzision erzeugt werden, als dies durch direkte Laserlithographie erreicht werden kann. MICROTEC RC 8 ist sowohl für hochfunktionelle als auch kostengünstige Prozesse geeignet. Es ist für niedrige elektrische und thermische Belastungen konzipiert, was bedeutet, dass KARL RUß RC 8 sowohl für schnelles Prototyping als auch für effiziente Massenproduktion von hoher Qualität und aufwendig detaillierten Mustern verwendet werden kann. Darüber hinaus stellt die Genauigkeit von 5 µm sicher, dass Muster mit engen Toleranzen repliziert werden können, die über mehrere Nutzungszyklen hinweg konsistent bleiben. Insgesamt wurde RC 8 entwickelt, um Photoresist-Ätz- und Lithographieverfahren mit komplizierter Präzision für eine Vielzahl von integrierten Schaltungsanwendungen zu ermöglichen. Es ist in der Lage, Muster auf der Substratoberfläche mit präziser Registrierung zu belichten, so dass es für die Massenproduktion von komplizierten Mustern mit gleichbleibender Qualität nützlich ist.