Gebraucht KYOWA RLE-52ES #9393172 zu verkaufen

KYOWA RLE-52ES ist ein Photoresist Lithographie-Gerät, das eine Lichtquelle verwendet, um eine Projektion eines Bildes oder einer Spule auf ein Substrat für verschiedene Druck- und Fertigungszwecke zu werfen. Dieses System eignet sich für eine Vielzahl anspruchsvoller Anwendungen wie Leiterplattenherstellung und Optik. Dieses hochpräzise Werkzeug kann Muster zu einer Auflösung auf Submikron-Niveau für präzise und genaue Produktion senden. Darüber hinaus bietet das Gerät eine überlegene Auflösung und Gleichmäßigkeit mit seinen schnellen und stetigen Beleuchtungsfähigkeiten kombiniert mit fortschrittlicher Scantechnologie. RLE-52ES Lichtquelle wurde als maximaler Wirkungsgrad bestimmt und ist glasfaserkompatibel. Es besteht aus zwei Lichtbogenlampen mit einer Hochstromversorgung, während eine andere Stromquelle Licht für den gleichmäßigen Beleuchtungsabschnitt liefert. Zusätzliche Beleuchtungsoptionen wie UV für Wellenlängenempfindlichkeit ermöglichen eine breitere Palette von Musterdesign-Möglichkeiten. Die Maschine ist mit einer automatisierten Bühnensteuerung mit einer großen Scanfläche für verschiedenste Substrate ausgestattet. Eine verbesserte Auflösung, Genauigkeit und Wiederholbarkeit bieten höhere Leistung und Effizienz. Die Mitte des Belichtungsbereichs wird durch X, Y und θ Achse ausgerichtet und ist durch ein fortschrittliches Autokorrekturwerkzeug leicht einstellbar. Der Photolack in KYOWA RLE-52ES ist sehr wichtig, da er die für die Bildung von Mustern erforderliche Belichtungszeit ermöglicht. Die virtuellen Ausrichtungssysteme des Asset sorgen für präzise Ausrichtungen, indem das Zentrumsmuster der Belichtungsbereiche mit dem exponierten Design verglichen wird, was einen völlig genauen Prozess garantiert. Das Ausrichtungsmodell kann auch das Auftreten von Fehlstellungen während des Prozesses reduzieren, den Ertrag erhöhen und die Prozessleistung optimieren. Als wichtiger Bestandteil der Photolithographie müssen Entwickler auch Fehlerwerte innerhalb von Substraten berücksichtigen. Die RHS-SAF51 und ihre komplementären Systeme erkennen und klassifizieren Defekte, während die Lichtquellen und automatisierten Merkmale der Geräte die Erkennbarkeit von Defekten in Substraten steuern können. Darüber hinaus bietet RLE-52ES optimierte Rezepturerstellungsmöglichkeiten für eine verbesserte Fehlerkontrolle und eine exakte Bestimmung der kritischen Dimensionsbereiche (CD). Insgesamt bietet dieses System seinen Anwendern eine vielseitige und präzise Lithographie für eine Vielzahl von Anwendungen. Die hohe Auflösung, die Automatisierung und die Fehlerkontrollkomponenten ermöglichen ein breites Anwendungsspektrum und einen schnellen und präzisen Herstellungsprozess.