Gebraucht LAURELL EDC-650HZB-23NPPB #9397753 zu verkaufen

LAURELL EDC-650HZB-23NPPB
ID: 9397753
Spin coater.
LAURELL EDC-650HZB-23NPPB Photoresist Equipment ist eine fortschrittliche Maschine zur Entwicklung hochwertiger Photomasken, die in der Mikroelektronikindustrie eingesetzt werden. Diese Maschine kann Masken mit extrem hoher Auflösung und ausgezeichneter Linienschichtgenauigkeit erstellen, perfekt für die fortschrittliche Chipherstellung. LAURELL EDC 650 HZB 23 NPPB nutzt modernste Photolackverarbeitungstechnik mit automatischer Substrathandhabung und geschlossener Prozesssteuerung. Das fortschrittliche Design trägt dazu bei, dass jede Maske einheitliche Merkmale, ausgezeichnete Muster und einheitliche Linienbreiten aufweist. Diese Einheit bietet auch eine ausgezeichnete Linearität und eine geringe Streuung für konsistente Prozesse. Die Photoresist-Maschine verfügt über eine Zweizonen-beheizte Kassette, die einen höheren Durchsatz und eine bessere Präzision bei der Handhabung mehrerer Substrate bietet. Die Verwendung von bidirektionalem Transport hilft sicherzustellen, dass der Resist gleichmäßig über die Substratoberfläche verteilt ist. Die Kassette weist auch eine Reihe von Drucksensoren auf, so dass sie die Dicke und Spreizung der Resistschicht effizient messen kann. Darüber hinaus verfügt EDC-650HZB-23NPPB Fotolackwerkzeug über eine hochauflösende Kamera zur Maskeninspektion. Diese Kamera ist in der Lage, kleine Defekte wie Partikel und Kratzer zu erkennen, so dass Defekte vermieden werden können. Es bietet auch Echtzeit-Imaging-Feedback an den Benutzer, um Genauigkeit in der Entwicklung von Photomasken zu gewährleisten. Für eine umfassendere Prozesssteuerung verfügt das Asset über eine umfassende Software-Suite. Diese Software automatisiert nicht nur Maskenbildungsprozesse, sondern bietet Anwendern auch einfachen Zugriff auf alle relevanten Daten, die zur Optimierung ihrer Prozesse benötigt werden. Abschließend ist das EDC 650 HZB 23 NPPB Photoresist Modell eine ausgezeichnete Wahl für die Mikroelektronikindustrie. Mit seiner fortschrittlichen Photoresist-Verarbeitungstechnologie, seiner hochauflösenden Kamera und seiner effektiven Software-Suite ist es eine ideale Maschine für die Entwicklung fortschrittlicher Photomasken für die Chipherstellung.
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