Gebraucht LAURELL WS-400B-6NPP #293822285 zu verkaufen

LAURELL WS-400B-6NPP ist eine Benchtop-Fotoresistverarbeitungsanlage, die sich für viele elektrooptische Verarbeitungsanwendungen wie Dünnschichtabscheidung, Ätzen, Isolierkaschierung und Photoresistbeschichtung eignet. Dieses fortschrittliche All-in-One-System wurde entwickelt, um Anwendern eine hervorragende Leistung und eine enge Prozesskontrolle zu bieten. Es verfügt über eine ausgestattete temperaturgesteuerte Plattform, eine leistungsstarke 6kV Stromquelle und einen 4-Zonen-Diffusbeleuchter. Die temperaturgesteuerte Plattform verfügt über eine große Bearbeitungskammer, die Temperaturen bis zu 80 ° C erreichen kann und für die präzise Handhabung empfindlicher Photomasken und Resistschichten auf eine Genauigkeit von 1 ° eingestellt werden kann. Der 4-Zonen-Diffusbeleuchter kann so eingestellt werden, dass er Beleuchtungsstufen von 25 bis 75 W/cm2 erreicht und gleichzeitig eine gleichmäßige Beleuchtung über die gesamte Oberfläche der Photomaske oder des Wafers gewährleistet. Dies ermöglicht eine gleichmäßigere, gleichmäßige lithographische Belichtung der Resistschicht. Zusätzlich kann der Beleuchter zur Feinabstimmung des Lithographieprozesses in Minutenschritten eingestellt werden. Die Stromquelle in WS-400B-6NPP hat eine maximale Leistungsabgabe von 6kV. Dies ermöglicht die Abscheidung konformer dünner Filme oder die Bildung definierter Ätzmuster auf dem Wafer oder der Photomaske unter Beibehaltung einer engen Prozesskontrolle. Mit seiner 6kV Stromquelle können mit LAURELL WS-400B-6NPP tiefe Gräben und Merkmale geätzt werden, um Strukturen wie mikrofluidische Kanäle exakt herzustellen. Zusätzlich ist das Gerät mit einer proprietären laserinduzierten Temperiermaschine (LITC) ausgestattet, die die genaue Temperatur des Photolacks während des lithographischen Prozesses misst, um thermische Drift zu minimieren und optimale Lithographieergebnisse zu gewährleisten. Ebenfalls enthalten ist ein automatisiertes Resistbeschichtungswerkzeug, das eine gleichmäßige Abgabe der Resistschicht auf den Wafer oder die Maske ermöglicht. Dies gewährleistet genaue und konsistente Ergebnisse und minimiert Schwankungen durch manuelle Abgabe des Resists. Insgesamt ist WS-400B-6NPP ein fortschrittliches und vielseitiges Asset, das sich für eine Vielzahl verschiedener Photolackverarbeitungsanwendungen eignet. Durch seine präzise Temperaturregelung, 6kV Stromquelle, 4-Zonen-Diffusbeleuchter und automatisiertes Resistbeschichtungsmodell können Benutzer genaue und konsistente Lithographieergebnisse erzielen und gleichzeitig eine enge Prozesskontrolle erzielen.