Gebraucht LAURELL WS-650HZB-23NPP/UD3 #9397755 zu verkaufen

LAURELL WS-650HZB-23NPP/UD3 ist eine Hochleistungs-Photoresist-Ausrüstung für kritische Produktionsanwendungen im chemomechanischen Polierverfahren (CMP). Dieses System wurde entwickelt, um die Prozesskonsistenz und -ausbeute zu verbessern und gleichzeitig die Prozessentwicklungszeiten zu reduzieren. Es nutzt Naß-/Trockenstufen mit einstellbarem Vakuum sowie einen beheizten Substrattisch, um eine gleichmäßige Temperatur während der Verarbeitung aufrechtzuerhalten. Der WS-650HZB-23NPP/UD3 verwendet proprietäre Photoresisttechnologie und eine mechanische Plattform, um höchste Wiederholbarkeit und Genauigkeit der Polierergebnisse zu ermöglichen. Der Innenraum ist auf ein dokumentiertes Niveau druckbeaufschlagt und weist im Betrieb eine geringe Partikelbildung auf. Es verfügt über eine einstellbare Vakuum- und Augmented-Pufferlösung, um die Ergebnisse von höchster Qualität auf der Substratoberfläche zu gewährleisten. Das WS-650HZB-23NPP/UD3 verfügt außerdem über eine hochzuverlässige und präzise regulierte Photoresist Dispenser-Einheit, die eine präzise unabhängige Steuerung der Resistmaterialzuführung, Konzentration und Viskosität für jedes Substrat ermöglicht. Zusätzlich bietet die Maschine einen Schleudertrockner an, der eine Endreinigung, Spülung und Trocknung vor dem Entladen des polierten Substrats durchführt. Das WS-650HZB-23NPP/UD3 Foto-Resist-Tool ist benutzerfreundlich, mit intuitiven Bildschirmen, grafischen Menüs und vereinfachten Steuerungssystemen. Eine Temperatursonde innerhalb der Prozesskammer kann sowohl Substrat als auch Temperaturen jederzeit widerstehen. Diese Sonde ist entworfen, um genaue Resistfoliendicke und Temperatur zu halten, um höchste Produktqualität und Konsistenz auch bei hohen Durchsatzraten zu gewährleisten. Der Anwendungsbereich der Photoresist-Technologie wird durch die außergewöhnliche Hardwaregenauigkeit des WS-650HZB-23NPP/UD3 ermöglicht. Diese Einheit kann eine breite Palette von Substraten und verschiedenen Poliertechniken mit bemerkenswerter Wiederholbarkeit und Genauigkeit handhaben. Dieses Asset ist eine ideale Wahl für High-End-CMP-Anwendungen, die ein hohes Maß an Details, Präzision und konsistenten Ergebnissen erfordern.