Gebraucht LEYBOLD APS 1104 #293618526 zu verkaufen

LEYBOLD APS 1104 ist eine Photoresist-Ausrüstung für die Herstellung, Inspektion und Messtechnik von hochpräzisen Masken. Es handelt sich um ein automatisiertes Prozesssystem mit einer fortschrittlichen Produktionssteuerung (APS) und einer führenden Photoresist-Plattform. APS 1104 ermöglicht es Kunden, den Prozess der Produktion und Messtechnik von Retikeln und Masken mit fortschrittlicher Präzisions-Photoresist-Technologie durchzuführen. Das Verfahren beinhaltet das Spinnen, das Nachbelichtungsbacken, das Abkühlen und die Entwicklung von Photoresist, um einen strukturierten Resist für die nachfolgende Photolithographie zu schaffen. Das Design und die Steuerung des gesamten Photolackprozesses können in einem einzigen Workflow auf derselben APS-Plattform erfolgen. Die Maschine nutzt die neueste Photoresist-Technologie wie zweistufige Retikle-Fliesen, kontaktlose Steuerung, Mehrfachwellenlängenmesstechnik und Bildgebung und Barcode-Tracking. Es ist mit einer intuitiven Benutzeroberfläche konzipiert, die es Kunden ermöglicht, die Produktion und Messtechnik ihrer Fotoresists einfach zu steuern und zu optimieren. LEYBOLD APS 1104 verfügt über ein anpassbares Steuerwerkzeug, das eine automatische Optimierung des Maskenherstellungsprozesses ermöglicht, um den Produktionsdurchsatz zu maximieren und Zykluszeiten zu reduzieren. APS 1104 bietet auch eine breite Palette von Standard- und kundenspezifischen Bildgebungslösungen, einschließlich einer kompletten Palette von Qualitätskontrollfunktionen. Mit seinem hochauflösenden Zeiss-Mikroskop und seinem Asset Accurate Image Interleave (AIITM) kann es selbst kleinste Fehler in verschiedenen Arten von Photoresists erkennen. Darüber hinaus umfasst das Modell auch ein Rasterelektronenmikroskop (SEM) zur In-situ-Analyse von Photoresist-Mustern. Darüber hinaus verfügt LEYBOLD APS 1104 als Teil des LEYBOLD-Portfolios über hervorragende nachgelagerte Funktionen wie RTP, Ladung, Bonding und Transfer. So können Kunden ihre Fotolackmuster schnell und präzise in ihre bevorzugten Substrate verschieben. Zusammenfassend ist APS 1104 eine fortschrittliche Photolackausrüstung, die für die Herstellung, Inspektion und Messtechnik von hochpräzisen Masken entwickelt wurde. Es bietet Kunden eine intuitive Steuerung des gesamten Photoresist-Prozesses mit Produktionssteuerungssystem, anpassbaren Bildgebungslösungen und hervorragenden nachgeschalteten Funktionen, was es zu einer idealen Lösung für die Herstellung von hochpräzisen Masken macht.