Gebraucht LEYBOLD APS 1104 #293794881 zu verkaufen

Eine LEYBOLD APS 1104 ist eine Photolackanlage, die für die kontrollierte und automatisierte Nassverarbeitung von Halbleiterscheiben in einer Produktionsumgebung entwickelt wurde. Das APS 1104-System ist eine Open-Frame-Plattform mit einem zweistufigen Design, das maximale Effizienz und Sicherheit in einer Produktionsumgebung ermöglicht. Es verfügt über vier einzelne Verarbeitungsmodule, die jeweils unabhängig mit dedizierten Steuerungen für jedes Modul arbeiten und eine ideale Prozesssteuerung ermöglichen. Die obere Ebene der Einheit besteht aus einem Förderer, der Wafer von der Ladestation zu den vier Bearbeitungsmodulen transportiert. Der Förderer kann voreingestellt werden, um die Wafer in vorbestimmten Geschwindigkeiten und Intervallen zu bewegen, was wiederholbare und genaue Prozesszeiten ermöglicht. Die untere Ebene der Maschine enthält die Bearbeitungslösungsbehälter, aus denen die Prozesskammern jedes Moduls Lösung ziehen. Die vier Bearbeitungsmodule der Maschine dienen der Nassverarbeitung von Halbleiterscheiben. Das erste Modul führt den Resist-Spinnvorgang durch, indem Photolackmaterial auf die Waferoberfläche aufgebracht wird. Das zweite und dritte Modul führen Entwicklung bzw. Implantation durch, während das letzte Modul den Strippvorgang zur Entfernung des Photolackmaterials durchführt. Jedes dieser vier Module verwendet eine Drehtrommel aus Paddeln, um die Wafer innerhalb einer Prozesskammer zu transportieren, die zur gleichzeitigen Bearbeitung beider Seiten des Wafers geeignet ist. Die Prozesstrommeln enthalten Heizelemente und Steuerungen, die eine genaue Temperatureinstellung und Prozesssteuerung ermöglichen. LEYBOLD APS 1104 bietet auch eine Reihe von eingebauten Sicherheitsfunktionen. Das Werkzeug ist so konzipiert, dass es maximale Zugänglichkeit und Kontrolle von einer Bedienungsposition aus ermöglicht, sodass das gesamte Gerät von der Frontplatte aus überwacht werden kann. Alarmanlagen und Warnleuchten können den Bediener auf mögliche Gefahren durch überlaufende Tanks oder von Maschinen, die ihre Betriebstemperaturgrenzen erreichen, aufmerksam machen. APS 1104 ist ein ausgezeichnetes Photoresist-Modell für die automatisierte Nassverarbeitung von Halbleitern und bietet maximale Sicherheit, Genauigkeit und Effizienz für Produktionsumgebungen.