Gebraucht LEYBOLD APS 1104 #9092775 zu verkaufen
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ID: 9092775
Weinlese: 2009
Evaporator
Mechanical pump
Quartz head monitoring
Diffusion pump
Root pump
Dual E-beam guns
MFC's Chambers
Coating materials: TA2O5 and SIO2
Arch fixture
Pumping system:
Mechanical pump set:
(2) Stages: Single stage / Dual stage
Rotary
Roots
RUVAC WS501 11732
TRIVAC D65B
Diffusion pump ((7) Screw connections)
OMS 3000 Optical monitoring system
Poly cold unit
Film thickness monitor:
XTC-3 Crystal film thickness monitor
Single quartz crystal
APS System:
APS Plasma source
Standard leycom APS
K9 APS Control unit
TA150 APS Power supply unit
TP250 APS Heater unit
EB-Gun system:
(2) EB Guns ESV14
EB Gun HV 10.3
Shielding:
Cooling water division
LEYBOLD APS 1104 Manual
Voltage: 380 V
2009 vintage.
LEYBOLD APS 1104 ist ein Photoresist-Gerät, das speziell entwickelt wurde, um Anwendern einen vollständigen, genauen Workflow für Lithographie-Prozesse zu bieten. Das System besteht aus einer Reihe von Werkzeugen, die es Anwendern ermöglichen, Belichtung genau zu modellieren und Lithographie-Prozesse in einer beliebigen Einstellung zu entwickeln. Im Kern verwendet APS 1104 ein 4-stufiges Verfahren zur Herstellung von Waferoberflächen. Zunächst wird der Wafer einer Lichtquelle ausgesetzt, die sowohl ultraviolettes (UV) als auch tiefes ultraviolettes (DUV) Licht erzeugen kann. Diese Belichtung härtet und sensibilisiert den Photolack. Zweitens wird der Photolack in einem Entwicklerbad entwickelt, um das darunter liegende Substrat freizulegen. Drittens wird der Wafer einem Naßätzprozess unterzogen, um das Belichtungsmuster zu definieren. Schließlich wird der Wafer einer Nachbearbeitungsätzung unterzogen, bei der das belichtete Muster in das gewünschte 3D-Profil umgewandelt wird. Das Gerät verfügt auch über eine Reihe von beeindruckenden Eigenschaften, wie seine fortschrittliche optische Bildgebungsmaschine, die Fernfeld-Nichtlinearitäten so klein wie 10nm erkennen kann. Dieses Tool hilft, die Kontamination des Fotolacks zu reduzieren und arbeitet mit dem Bewegungsgut zusammen, um den Fokus des Lichts einzustellen, um das gesamte Sichtfeld genau zu belichten. LEYBOLD APS 1104 kann auch bis zu 1000 Wafer pro Stunde verarbeiten, so dass die Entwicklungszeiten maximal 20 Minuten pro Muster betragen. Sein Tieftemperaturbetrieb, gekoppelt mit seinem digitalen Temperaturregler und Thermoelement sorgt dafür, dass die Photolackschicht während des Prozesses nicht beschädigt wird. APS 1104 hat eine hohe Genauigkeit, die zum Teil durch seinen hochpräzisen Schrittregler und piezoelektrischen Wandler ermöglicht wird. Das Modell verfügt auch über eine intuitive Benutzeroberfläche sowie eine Vielzahl von Debugging-Tools, mit denen Benutzer Photoresist-Prozesse schnell und einfach modellieren können. Insgesamt ist LEYBOLD APS 1104 eine ausgezeichnete Wahl für eine Photolackausrüstung. Es ist sehr genau und effizient, so dass es eine perfekte Wahl für die Entwicklung von Lithographie-Prozessen.
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