Gebraucht LEYBOLD APS 1104 #9192878 zu verkaufen

LEYBOLD APS 1104 Photoresist Processing Equipment ist ein multifunktionales und vollautomatisches System, das in photolithographischen Prozessen eingesetzt wird. Es wurde speziell entwickelt, um verschiedene Arten von Photoresists mit optimalen Ergebnissen zu handhaben und zu entwickeln. APS 1104 bietet eine vollständige Kontrolle aller Parameter, die das Endprodukt beeinflussen, wie Temperatur, Feuchtigkeit, Taupunkt, Tensidkonzentration und Belichtungszeit. LEYBOLD APS 1104 besteht aus einer Prozesskammer, einer Steuereinheit zum Einrichten und Steuern der Prozessparameter und einem Entwicklungstank. Die Maschine ist mit zwei unabhängigen Magnetventilen ausgestattet, eines für das Lösungsmittel und eines für das Tensid, wodurch zu jedem Zeitpunkt unterschiedliche Verhältnisse und Konzentrationen der beiden Flüssigkeiten verwendet werden können. Der Lastanschluss enthält einen hochgenauen Kammertemperatursensor, der eine genaue Regelung der Temperatur innerhalb der Prozesskammer ermöglicht. Dies ist wichtig, da die Eigenschaften des Photolacks aufgrund von Temperaturänderungen erheblich verändert werden können und daher eine Temperaturregelung unerlässlich ist, um konsistente und reproduzierbare Ergebnisse zu erzielen. Die Kammer enthält auch ein Lösungs- und Tensidabgabewerkzeug. Die Anlage wurde entwickelt, um eine variable und genaue Abgabe von Lösungsmittel und Tensid zu ermöglichen, so dass der Benutzer die Mischung entsprechend ihren spezifischen Bedürfnissen kontrollieren kann. Nach dem Beladen wird die Kammer evakuiert und durch eine einstellbare, druckgesteuerte Pumpe ein Vakuum erzeugt. Durch Steuerung des Vakuums in der Kammer kann das gemischte Lösungsmittel und Tensid gleichmäßig über die Kammer verteilt werden. Der Benutzer kann die Belichtungszeit mit maximal 99,99 Sekunden und die Belichtungswellenlänge konfigurieren. Die Belichtungswellenlänge kann entsprechend dem jeweils verwendeten Photolack und den gewünschten Ergebnissen gewählt werden. Das Modell enthält auch eine Kochplatte mit einstellbarer Temperatur. Damit kann Wärme erzeugt werden, die den Aushärtungsprozess des Photolacks beschleunigt. Die Kochplatte verfügt auch über eine Zwangsluftkühlung Ausrüstung, die Hot Spots während der Entwicklung verhindert. Schließlich enthält APS 1104 einen Entwicklungstank, der mit einem magnetisch gekoppelten Rührer ausgestattet ist. Dadurch wird eine homogene und konsistente Entwicklung des Photolacks gewährleistet. Nach der Entwicklung wird der Photolack mit einer programmierbaren, einstellbaren Mediendüse gespült und getrocknet. Dies trägt dazu bei, dass der Photolack ohne Überhitzung oder Übertrocknung getrocknet wird. LEYBOLD APS 1104 ist daher ideal für die Großproduktion von Photolithographie-Produkten.