Gebraucht LEYBOLD APS 1104 #9226191 zu verkaufen

LEYBOLD APS 1104 ist eine Photoresist-Ausrüstung für Lithographie- und hochpräzise Photolithographieverfahren. Sie eignet sich besonders für den Einsatz in der mikroelektronischen Geräteherstellung und Nanotechnologie. Das Photolacksystem besteht aus einer Lichtquelle und einer Optik, einer Photomaske und einer Photolackauftrags- und -härtungsstation. Die Fotolackeinheit weist eine anpassbare Lichtquelle auf, die aus einer mit einer verstellbaren optischen Maschine gekoppelten Lichtquelle besteht. Die Lichtquelle ist entworfen, um breite, homogene Lichtmusterfähigkeit mit einem einstellbaren optischen Fokus und gleichmäßiger Punktgröße zu liefern. Dadurch wird eine optimale gleichmäßige Belichtung von Photolackflächen gewährleistet. Eine integrierte Verschluss- und Intensitätsregelung ermöglicht Mehrfachbelichtungen mit unterschiedlicher Lichtintensität zur Verfeinerung von Designmerkmalen. Das Fotomasken-Werkzeug ist ein wesentlicher Bestandteil der Druckstation. Es dient zur Ausrichtung und Registrierung während des Druck- und Belichtungsprozesses. Das Fotomasken-Werkzeug ist auf individuelle Winkel und Drehwinkel einstellbar. Darüber hinaus unterstützt es hochpräzise und fein abgestimmte Registrierungshilfen bei der Erzielung einer gleichmäßigen Abdeckung des Substrats. Die Photolack-Beschichtungsstation ist dazu ausgelegt, den Photolack gleichmäßig aufzubringen und auszuhärten. Es verfügt über eine integrierte Spinn- und Walzenausgabedüse, die eine gleichmäßige, homogene Abdeckung des Substrats und die Anwendung aufeinanderfolgender Muster ermöglicht. Eine Härtungsstation ermöglicht eine vordefinierte Temperatur und Dauer für die Photolackaushärtung. APS 1104 verfügt auch über eine integrierte Wasch- und Trockenstation zur Photolackentfernung und Entwicklung von Strukturen auf dem Substrat. Diese Station beinhaltet ein Bürstenwerkzeug, welches ideal zur Reinigung der Oberfläche des Substrats vor der Photolackabscheidung geeignet ist. Insgesamt ist LEYBOLD APS 1104 ein ausgezeichneter Photoresist für Mikroelektronik und Nanotechnologie Forschung und Anwendung. Seine einstellbare Lichtquelle und Optik, Photomaske und Photolack-Beschichtungsstation bieten eine präzise Steuerung und gleichmäßige Belichtung von Photolackflächen. Das Modell ist auch mit einer Wasch- und Trockenstation zur Vorbereitung und Entwicklung von Strukturen auf dem Substrat ausgestattet.